一种全贴合抗静电光学胶
【技术领域】
1.本实用新型涉及光学胶的技术领域，特别是oca光学胶的技术领域。
背景技术：2.oca光学胶是一种无基体材料的双面贴合胶带，是重要触摸屏的原材料之一。oca光学胶是一种透光率很高的光学胶黏剂，通常要求透光率大于90％以上，且具备较强的粘接性能。
3.oca光学胶分为丙烯酸光学胶、有机硅光学胶和聚氨酯光学胶等。现有的oca光学胶在具备良好的填充性能时，难以达到很好的力学拉伸强度，导致返工性差，不能满足人们的需求。
技术实现要素：4.本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种全贴合抗静电光学胶，同时具备了良好的填充性和力学拉伸强度。
5.为实现上述目的，本实用新型提出了一种全贴合抗静电光学胶，包括丙烯酸酯光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的上表面设有第一有机硅光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的下表面设有第二有机硅光学胶层，所述第一有机硅光学胶层的上表面设有重离型膜层，所述第二有机硅光学胶层的下表面设有轻离型膜层，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层的厚度均小于丙烯酸酯光学胶层。
6.作为优选，所述第一有机硅光学胶层和丙烯酸酯光学胶层之间设有第一透明pi层，所述第二有机硅光学胶层和丙烯酸酯光学胶层之间设有第二透明pi层，所述oca光学胶透光率不小于90％，第一透明pi层和第二透明pi层的厚度均为20μm。
7.作为优选，所述轻离型膜层的厚度为70-80μm，离型力为5-10gf/25mm，所述重离型膜层的厚度为90-110μm，离型力为15-30gf/25mm，轻离型膜层和重离型膜层的电阻值均为10
6-109ω。
8.作为优选，所述丙烯酸酯光学胶层的厚度为50-120μm，所述第一有机硅光学胶层的厚度为25-70μm，所述第一有机硅光学胶层的厚度为25-70μm。
9.作为优选，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层在50℃下的蠕变值均为25％-60％。
10.作为优选，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层内均分布有抗静电剂。
11.本实用新型的有益效果：本实用新型通过在丙烯酸酯光学胶层的两侧设置有机硅光学胶层，形成夹芯光学胶，中间的丙烯酸酯光学胶层提供很好的拉伸强度，两侧的有机硅光学胶层提供很好的耐候性和油墨段差填充性，使光学胶具备良好的填充性和力学拉伸强度，具有优益的返工性；通过在丙烯酸酯光学胶层和有机硅光学胶层之间增设透明pi层，进一步提高光学胶的力学性能；有机硅光学胶层中分散的抗静电剂使光学胶具有抗静电的性
能。
12.本实用新型的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。
【附图说明】
13.图1是本实用新型的实施例1的结构示意图；
14.图2是本实用新型的实施例2的结构示意图。
15.图中：1-丙烯酸酯光学胶层、2-第一有机硅光学胶层、3-第二有机硅光学胶层、4-重离型膜层、5-轻离型膜层、6-第一透明pi层、7-第二透明pi层。
【具体实施方式】
16.实施例1：
17.参阅图1，本实用新型一种全贴合抗静电光学胶，包括丙烯酸酯光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的上表面设有第一有机硅光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的下表面设有第二有机硅光学胶层，所述第一有机硅光学胶层的上表面设有重离型膜层，所述第二有机硅光学胶层的下表面设有轻离型膜层，轻离型膜层和重离型膜层的电阻值均为10
6-109ω，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层的厚度均小于丙烯酸酯光学胶层；
18.所述轻离型膜层的厚度为70-80μm，离型力为5-10gf/25mm，所述重离型膜层的厚度为90-110μm，离型力为15-30gf/25mm，所述丙烯酸酯光学胶层的厚度为50μm，所述第一有机硅光学胶层的厚度为25μm，所述第一有机硅光学胶层的厚度为25μm，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层在50℃下的蠕变值均为25％-60％；
19.所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层内均分布有抗静电剂，抗静电剂包括硬脂基三甲基季铵盐酸盐、硬脂酰胺丙基羟乙基季铵硝酸盐、对壬基苯氧基丙基磺酸钠、烷基双(α-羟乙基胺磷酸酯)和硬脂酸单甘油酯中的至少一种，第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层电阻值均为10
9-10
11
ω。
20.实施例2：
21.参阅图2，本实用新型一种全贴合抗静电光学胶，包括丙烯酸酯光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的上表面设有第一有机硅光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的下表面设有第二有机硅光学胶层，所述第一有机硅光学胶层的上表面设有重离型膜层，所述第二有机硅光学胶层的下表面设有轻离型膜层，轻离型膜层和重离型膜层的电阻值均为10
6-109ω，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层的厚度均小于丙烯酸酯光学胶层；所述第一有机硅光学胶层和丙烯酸酯光学胶层之间设有第一透明pi层，所述第二有机硅光学胶层和丙烯酸酯光学胶层之间设有第二透明pi层，第一透明pi层6和第二透明pi层7的厚度均为20μm；
22.所述轻离型膜层的厚度为70-80μm，离型力为5-10gf/25mm，所述重离型膜层的厚度为90-110μm，离型力为15-30gf/25mm，所述丙烯酸酯光学胶层的厚度为100μm，所述第一有机硅光学胶层的厚度为50μm，所述第一有机硅光学胶层的厚度为50μm，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层在50℃下的蠕变值均为25％-60％；
23.所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层内均分布有抗静电剂，抗静电剂包括硬脂基三甲基季铵盐酸盐、硬脂酰胺丙基羟乙基季铵硝酸盐、对壬基苯氧基丙基磺酸
钠、烷基双(α-羟乙基胺磷酸酯)和硬脂酸单甘油酯中的至少一种，第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层电阻值均为10
9-10
11
ω。
24.第一透明pi层6和第二透明pi层7中均分散有透明吸波材料，所述透明吸波材料为导电聚苯胺和氰酸盐晶须的混合物。通过添加透明吸波材料使光学胶具有吸收电磁波的功能。
25.本实用新型通过在丙烯酸酯光学胶层的两侧设置有机硅光学胶层，形成夹芯光学胶，中间的丙烯酸酯光学胶层提供很好的拉伸强度，两侧的有机硅光学胶层提供很好的耐候性和油墨段差填充性，使光学胶具备良好的填充性和力学拉伸强度；通过在丙烯酸酯光学胶层和有机硅光学胶层之间增设透明pi层，进一步提高光学胶的力学性能；有机硅光学胶层中分散的抗静电剂使光学胶具有抗静电的性能。
26.上述实施例是对本实用新型的说明，不是对本实用新型的限定，任何对本实用新型简单变换后的方案均属于本实用新型的保护范围。
技术特征：1.一种全贴合抗静电光学胶，其特征在于：包括丙烯酸酯光学胶层(1)，所述丙烯酸酯光学胶层(1)的上表面设有第一有机硅光学胶层(2)，所述丙烯酸酯光学胶层(1)的下表面设有第二有机硅光学胶层(3)，所述第一有机硅光学胶层(2)的上表面设有重离型膜层(4)，所述第二有机硅光学胶层(3)的下表面设有轻离型膜层(5)，所述第一有机硅光学胶层(2)和第二有机硅光学胶层(3)的厚度均小于丙烯酸酯光学胶层(1)。2.如权利要求1所述的全贴合抗静电光学胶，其特征在于：所述第一有机硅光学胶层(2)和丙烯酸酯光学胶层(1)之间设有第一透明pi层(6)，所述第二有机硅光学胶层(3)和丙烯酸酯光学胶层(1)之间设有第二透明pi层(7)。3.如权利要求1所述的全贴合抗静电光学胶，其特征在于：所述轻离型膜层(5)的厚度为70-80μm，离型力为5-10gf/25mm，所述重离型膜层(4)的厚度为90-110μm，离型力为15-30gf/25mm；轻离型膜层(5)和重离型膜层(4)的电阻值均为10
6-109ω。4.如权利要求1所述的全贴合抗静电光学胶，其特征在于：所述丙烯酸酯光学胶层(1)的厚度为50-120μm，所述第一有机硅光学胶层(2)的厚度为25-70μm，所述第一有机硅光学胶层(2)的厚度为25-70μm。5.如权利要求1所述的全贴合抗静电光学胶，其特征在于：所述第一有机硅光学胶层(2)和第二有机硅光学胶层(3)在50℃下的蠕变值均为25％-60％。6.如权利要求1所述的全贴合抗静电光学胶，其特征在于：所述第一有机硅光学胶层(2)和第二有机硅光学胶层(3)内均分布有抗静电剂，第一有机硅光学胶层(2)和第二有机硅光学胶层(3)电阻值均为10
9-10
11
ω。
技术总结本实用新型公开了一种全贴合抗静电光学胶，包括丙烯酸酯光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的上表面设有第一有机硅光学胶层，所述丙烯酸酯光学胶层的下表面设有第二有机硅光学胶层，所述第一有机硅光学胶层的上表面设有重离型膜层，所述第二有机硅光学胶层的下表面设有轻离型膜层，所述第一有机硅光学胶层和第二有机硅光学胶层的厚度均小于丙烯酸酯光学胶层。本实用新型通过在丙烯酸酯光学胶层的两侧设置有机硅光学胶层，形成夹芯光学胶，中间的丙烯酸酯光学胶层提供很好的拉伸强度，两侧的有机硅光学胶层提供很好的耐候性和油墨段差填充性，使光学胶具备良好的填充性和力学拉伸强度。强度。强度。
技术研发人员：裴建军 陈超 王志坚 陈涛
受保护的技术使用者：浙江日久新材料科技有限公司
技术研发日：2022.01.12
技术公布日：2022/7/5
