1.本实用新型涉及一种纺织机械制造装置，尤其是涉及一种半自动式的简易气圈跟踪装置。
背景技术：2.目前，络筒机在进行纺纱过程中，管纱进行退绕，在退绕时会产生一定的气圈，对纱线张力造成一定影响。一般采用固定式气圈控制器进行气圈控制，或通过改变络纱速度进行控制。但在高速生产时，效果并不理想，尤其是在管纱退绕到还有1/5时，纱线张力突然增加，容易造成脱圈及断头现象，影响生产效率。
3.目前解决络纱张力有两种方式：其一，积极式络纱张力控制技术。该方式系统通过张力检测装置，由单锭控制器调节张力盘的压力，和络纱卷绕速度，确保卷绕张力稳定。但是由于未对管纱退绕气圈控制，以至纱线退绕张力波动较大，影响纱线张力的稳定性。通过调节络筒速度控制纱线张力，影响络纱速度的提高，导致纱线毛羽增加。其二，消极式络纱张力控制技术。对于日本村田公司使用的跟踪式气圈控制装置，该方法结构复杂，精度要求高，故障率相对较高，不适用于半自动式络筒机。
技术实现要素：4.本实用新型提供了一种简易气圈跟踪装置，以控制退绕气圈高度, 确保退绕气圈的大小适当，退绕张力稳定，其结构简单，成本低，维护方便，适用于半自动人工喂管式络筒机。
5.本实用新型采用的技术方案如下所述：
6.一种简易气圈跟踪装置，包括气缸、双气圈罩和对射式光电传感器，所述气缸与双气圈罩连接，所述双气圈罩包括上气圈罩和下气圈罩，所述上气圈罩位于下气圈罩上方，所述上气圈罩设置在气缸上部，所述下气圈罩设置在气缸下部，所述气缸可移动的设置在络筒机换管右侧的滑轨上，所述对射式光电传感器包括光电传感器发射端与光电传感器接收端，所述光电传感器发射端与光电传感器接收端分别设置在管纱两侧，所述光电传感器发射端与光电传感器接收端位于同一高度。
7.进一步地，所述双气圈罩初始位于管纱上方，上气圈罩和下气圈罩的中心连线与滑轨相平行。
8.进一步地，所述双气圈罩初始位于管纱上方时，所述上气圈罩位于管纱50cm处，下气圈罩位于管纱10cm处。
9.进一步地，所述对射式光电传感器设置在管纱下部的1/3处，与管纱平行，通过对射式光电传感器的信号控制气缸的升降。
10.进一步地，光电传感器发射端与光电传感器接收端对称设置在管纱下部的1/3处，所述光电传感器发射端与光电传感器接收端的中心连线与管纱侧壁相切。
11.进一步地，所述气缸和对射式光电传感器的电气部分均由单锭板连接且控制，其
中，气缸和光电传感器发射端的电气部分均由单锭板连接且控制。
12.进一步地，所述双气圈罩工作停止时，所述上气圈罩位于管纱底部50cm处，下气圈罩位于管纱底部10cm处，所述气缸位于管纱底部20cm处。
13.本实用新型与现有技术相比的有益效果为：本实用新型一种简易气圈跟踪装置采用间接检测纱线张力开始急剧上升时段的方式，采用双气圈罩结构，以控制退绕气圈的高度来稳定管纱退绕时的张力。保障管纱退绕的任意高度时，使管纱在退绕中始终保持单气圈状态，使退绕出来的纱与管纱锥形纱层及管纱间的摩擦降到最低，从而使管纱在退绕过程中产生的毛羽减少。实用于半自动式络筒机，其结构简单，安装调节方便。在络纱过程中，在一定条件下会产生退绕气圈，进而影响纱线的正常退绕，退绕气圈是通过有弹性地进行收缩或膨胀，进而实现贮存或释放纱线，稳定退绕张力。但随着退绕气圈高度的进一步增大，退绕气圈极度的膨胀，尤其是管纱退绕到还剩余总纱量的1/5时，纱线张力急剧增加，张力值能达到前4/5段的2-3倍。因此本实用新型在针对管纱卷绕到1/5处的退绕气圈进行控制，进而控制纱线卷绕张力。
附图说明
14.构成本技术的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
15.图1为本实用新型一种简易气圈跟踪装置的初始位置结构示意图；
16.图2为本实用新型一种简易气圈跟踪装置的工作位置结构示意图。
17.附图说明：
18.1、气缸；2、上气圈罩；3、下气圈罩；4、光电传感器发射端；5、光电传感器接收端；6、滑轨。
具体实施方式
19.需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
20.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
21.实施例1
22.如图1所示，图1为本实用新型一种简易气圈跟踪装置的初始位置结构示意图；一种简易气圈跟踪装置，包括气缸1、双气圈罩和对射式光电传感器，所述气缸1与双气圈罩连接，所述双气圈罩包括上气圈罩2和下气圈罩3，所述上气圈罩2位于下气圈罩3上方，所述上气圈罩2固定设置在气缸1上部，所述下气圈罩3固定设置在气缸1下部，所述气缸1可移动的设置在络筒机换管右侧的滑轨6上，所述对射式光电传感器包括光电传感器发射端4与光电传感器接收端5，所述光电传感器发射端4与光电传感器接收端5分别设置在管纱两侧，所述
光电传感器发射端4与光电传感器接收端5位于同一高度。
23.所述双气圈罩初始位于管纱上方，上气圈罩2和下气圈罩3的中心连线与滑轨6相平行。所述双气圈罩初始位于管纱上方时，所述上气圈罩2位于管纱50cm处，下气圈罩3位于管纱10cm处。所述对射式光电传感器设置在管纱下部的1/3处，与管纱平行，通过对射式光电传感器的信号控制气缸的升降。光电传感器发射端4与光电传感器接收端5对称设置在管纱下部的1/3处，所述光电传感器发射端4与光电传感器接收端5的中心连线与管纱侧壁相切。所述气缸1和对射式光电传感器的电气部分均由单锭板连接且控制，其中，气缸1和光电传感器发射端4的电气部分均由单锭板连接且控制。
24.实施例2
25.如图2所示，图2为本实用新型一种简易气圈跟踪装置的工作位置结构示意图，上气圈罩2和下气圈罩3的中心连线与滑轨6相平行。所述双气圈罩工作停止时，所述上气圈罩2位于管纱底部50cm处，下气圈罩3位于管纱底部10cm处，所述气缸1位于管纱底部20cm处。所述对射式光电传感器设置在管纱下部的1/3处，与管纱平行，通过对射式光电传感器的信号控制气缸的升降。光电传感器发射端4与光电传感器接收端5对称设置在管纱下部的1/3处，所述光电传感器发射端4与光电传感器接收端5的中心连线与管纱侧壁相切。所述气缸1和对射式光电传感器的电气部分均由单锭板连接且控制，其中，气缸1和光电传感器发射端4的电气部分均由单锭板连接且控制。
26.本实用新型的工作原理为：在单锭开始络纱时，管纱的纱线高度为l，光电传感器发射端4的光路被纱线遮挡，光电传感器接收端5未收到信号，气缸1保持原状态不动。
27.当管纱退绕到底部1/3高度时，光电传感器发射端4的光路不被纱线遮挡，光电传感器接收端5收到信号，气缸1开始带动上气圈罩2、下气圈罩3向下运动，当气缸1运动到距离管纱底部20cm处停止，此时上气圈罩2位于管纱底部50cm处，下气圈罩3位于管纱底部10cm处，气缸1的速度可由单锭控制板控制。
28.当管纱纺完纱线，络筒机的纱线传感器没有信号，需要换管，气缸1带动上气圈罩2、下气圈罩3向上运动到原来位置。所述上气圈罩2、下气圈罩3的安装位置可根据纱线品种、络纱速度进行自行调节。所述气缸1的上升下降速度均由单锭控制板控制，方便控制。
29.在整个退绕过程中，光电传感器发射端4一直发送信号，一旦管纱没有纱线遮挡光路，光电传感器接收端5收到信号，气缸1及带动上气圈罩2、下气圈罩3开始下降。保证管纱退绕的任意高度时，纱线始终保持单气圈状态，使退绕出来的纱与管纱锥形纱层及管纱间的摩擦降到最低，从而使管纱在退绕过程中产生的毛羽减少，张力减小。
30.一种简易气圈跟踪装置采用间接检测纱线张力开始急剧上升时段的方式，采用双气圈罩结构，以控制退绕气圈的高度来稳定管纱退绕时的张力。保障管纱退绕的任意高度时，使管纱在退绕中始终保持单气圈状态，使退绕出来的纱与管纱锥形纱层及管纱间的摩擦降到最低，从而使管纱在退绕过程中产生的毛羽减少。实用于半自动式络筒机，其结构简单，安装调节方便。
31.在络纱过程中，在一定条件下会产生退绕气圈，进而影响纱线的正常退绕，退绕气圈是通过有弹性地进行收缩或膨胀，进而实现贮存或释放纱线，稳定退绕张力。但随着退绕气圈高度的进一步增大，退绕气圈极度的膨胀，尤其是管纱退绕到还剩余总纱量的1/5时，纱线张力急剧增加，张力值能达到前4/5段的2-3倍。因此本实用新型在针对管纱卷绕到1/5
处的退绕气圈进行控制，进而控制纱线卷绕张力。
32.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
技术特征：1.一种简易气圈跟踪装置，包括气缸（1）、双气圈罩和对射式光电传感器，其特征在于，所述气缸（1）与双气圈罩连接，所述双气圈罩包括上气圈罩（2）和下气圈罩（3），所述上气圈罩（2）位于下气圈罩（3）上方，所述上气圈罩（2）设置在气缸（1）上部，所述下气圈罩（3）设置在气缸（1）下部，所述气缸（1）可移动的设置在络筒机换管右侧的滑轨（6）上，所述对射式光电传感器包括光电传感器发射端（4）与光电传感器接收端（5），所述光电传感器发射端（4）与光电传感器接收端（5）分别设置在管纱两侧，所述光电传感器发射端（4）与光电传感器接收端（5）位于同一高度。2.根据权利要求1所述的一种简易气圈跟踪装置，其特征在于，双气圈罩初始位于管纱上方，上气圈罩（2）和下气圈罩（3）的中心连线与滑轨（6）相平行。3.根据权利要求2所述的一种简易气圈跟踪装置，其特征在于，双气圈罩初始位于管纱上方时，所述上气圈罩（2）位于管纱50cm处，下气圈罩（3）位于管纱10cm处。4.根据权利要求1所述的一种简易气圈跟踪装置，其特征在于，所述对射式光电传感器设置在管纱下部的1/3处，与管纱平行。5.根据权利要求4所述的一种简易气圈跟踪装置，其特征在于，光电传感器发射端（4）与光电传感器接收端（5）对称设置在管纱下部的1/3处，所述光电传感器发射端（4）与光电传感器接收端（5）的中心连线与管纱侧壁相切。6.根据权利要求1所述的一种简易气圈跟踪装置，其特征在于，所述气缸（1）和对射式光电传感器的电气部分均由单锭板连接且控制，其中，气缸（1）和光电传感器发射端（4）的电气部分均由单锭板连接且控制。7.根据权利要求1所述的一种简易气圈跟踪装置，其特征在于，双气圈罩工作停止时，所述上气圈罩（2）位于管纱底部50cm处，下气圈罩（3）位于管纱底部10cm处，所述气缸（1）位于管纱底部20cm处。
技术总结本实用新型公开了一种简易气圈跟踪装置，包括气缸、双气圈罩和对射式光电传感器，所述气缸与双气圈罩连接，所述双气圈罩包括上气圈罩和下气圈罩，所述上气圈罩位于下气圈罩上方，所述上气圈罩设置在气缸上部，所述下气圈罩设置在气缸下部，所述气缸可移动的设置在络筒机换管右侧的滑轨上，所述对射式光电传感器包括光电传感器发射端与光电传感器接收端，所述光电传感器发射端与光电传感器接收端分别设置在管纱两侧，所述光电传感器发射端与光电传感器接收端位于同一高度。本实用新型以控制退绕气圈高度,确保退绕气圈的大小适当，退绕张力稳定，其结构简单，成本低，维护方便，适用于半自动人工喂管式络筒机。于半自动人工喂管式络筒机。于半自动人工喂管式络筒机。
技术研发人员：郅泽跃 张大柱 刘延玲 高丽佳
受保护的技术使用者：经纬纺织机械股份有限公司
技术研发日：2022.01.12
技术公布日：2022/7/5
