1.本实用新型属于治具装置技术领域，具体涉及一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置。
背景技术：2.接触式曝光是指掩膜光罩直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜光罩上的图形分辨率相当。然而，针对高分辨率(线宽小于2um(微米))的掩膜光罩线路，基材厚度通常为13～200微米，如果使用非真空接触式曝光，则无法让基材在掩模版中间吸附平整，曝光时就会出现重影1和/或锯齿2的问题(如图1、图2所示)。重影1是指曝光后的线路出现阶梯型结构，及大小双层线路。锯齿2是指曝光后的线路边缘出现类似锯齿边。
技术实现要素：3.本实用新型的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。
4.为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。
5.在一个具体实施例中，所述第二固定治具上设置有与所述第一镂空部呈相对布置的第二镂空部，所述第二镂空部的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩的第一侧面，所述柔性基材通过真空吸附在所述第二掩膜光罩的第二侧面和所述第一掩膜光罩的第二侧面之间。
6.在一个具体实施例中，所述第一固定治具的内部设置有与所述真空泵相连通的第一回字形真空槽，所述第一回字形真空槽环绕设置在所述第一镂空部的外部。
7.在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第一真空孔。
8.在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的内部框架形成所述第一镂空部的框架，所述第一回字形真空槽的内部框架上设置有与所述真空泵相连通的第一掩膜光罩真空槽，所述第一掩膜光罩通过所述第一掩膜光罩真空槽内的真空吸附在所述第一回字形真空槽的内部框架上。
9.在一个具体实施例中，所述第一掩膜光罩真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第二真空孔。
10.在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的内部框架的顶面与所述第一回字
形真空槽的底面的距离小于所述第一固定治具的内表面与所述第一回字形真空槽的底面的距离。
11.在一个具体实施例中，所述第二固定治具的内部设置有与所述真空泵相连通的第二回字形真空槽，所述第二回字形真空槽环绕设置在所述第二镂空部的外部。
12.在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的内部框架形成所述第二镂空部的框架，所述第二回字形真空槽的内部框架上设置有与所述真空泵相连通的第二掩膜光罩真空槽，所述第二掩膜光罩通过所述第二掩膜光罩真空槽内的真空吸附在所述第二回字形真空槽的内部框架上。
13.在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第三真空孔。
14.在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽与所述第一回字形真空槽呈相对布置。
15.在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽与所述第一掩膜光罩真空槽呈相对设置。
16.在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的槽口宽度与所述第一回字形真空槽的槽口宽度相同。
17.在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的槽口宽度与所述第一掩膜光罩真空槽的槽口宽度相同。
18.在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的槽深与所述第一回字形真空槽的槽深相同。
19.在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的槽深与所述第一掩膜光罩真空槽的槽深相同。
20.在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的内部框架的顶面与所述第二回字形真空槽的底面的距离小于所述第二固定治具的内表面与所述第二回字形真空槽的底面的距离。
21.在一个具体实施例中，所述第一固定治具的内表面上位于所述第一回字形真空槽的外部设置有密封圈。
22.在一个具体实施例中，所述密封圈的数目为多个。
23.在一个具体实施例中，所述多个密封圈绕所述第一回字形真空槽呈间隔设置。
24.在一个具体实施例中，所述第一镂空部与所述第二镂空部的孔径相同。
25.在一个具体实施例中，所述第一固定治具和所述第二固定治具通过连接件连接。
26.在一个具体实施例中，所述柔性基材包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、无色透明聚酰亚胺膜、环烯烃聚合物膜或超复屈折膜。
27.与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：
28.本实用新型能够利用大气压将第一掩膜光罩、第二掩膜光罩和柔性基材紧密的压在一起，并能够实现高真空接触曝光，照度分布小于3％，且利用此真空接触式曝光方式，能够实现良好的精度和/或解析度，精度和/或解析度为1～2微米，线均匀性小于10％。
附图说明
29.图1示出了现有技术中基材在曝光时出现重影的示意图；
30.图2示出了现有技术中基材在曝光时出现锯齿的示意图
31.图3示出了本实用新型的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的一个具体实施例的结构示意图；
32.图4示出了本实用新型的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的第一固定治具的结构示意图；
33.图5示出了本实用新型的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的第二固定治具的结构示意图；
34.图6示出了本实用新型的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的局部结构的剖视示意图；
35.图7示出了图6中a的放大结构示意图；
36.图8示出了采用本实用新型的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置进行接触式曝光的效果图。
37.其中，1-重影；2-锯齿；3-第一固定治具；31-第一镂空部；32-第一固定治具3的内表面；33-第一回字形真空槽；331-第一真空孔；332-第一回字形真空槽33的内部框架；333-第一掩膜光罩真空槽；3331-第二真空孔；4-第一掩膜光罩；41-第一掩膜光罩4的第一侧面；42-第一掩膜光罩4的第二侧面；5-第二固定治具；51-第二固定治具5的内表面；52-第二镂空部；53-第二回字形真空槽；531-第二回字形真空槽53的内部框架；532-第二掩膜光罩真空槽；5321-第三真空孔；6-真空泵；7-柔性基材；8-第二掩膜光罩；81-第二掩膜光罩8的第一侧面；82-第二掩膜光罩8的第二侧面；9-密封圈；10-连接件；11-气管。
具体实施方式
38.下面结合附图所示的实施例对本实用新型作进一步说明。
39.本实用新型所提到的方向用语例如“内”、“外”等，仅是参考附加图式的方式。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本实用新型，而非用以限制本实用新型。
40.如图3～7所示，本实用新型的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，包括：第一固定治具3、第一掩膜光罩4、第二固定治具5和真空泵6。第一固定治具3用于装载第一掩膜光罩4并与真空泵6连接。第一固定治具3上设置有第一镂空部31，能够供光源(包括紫外线光源)通过。第一掩膜光罩4的第一侧面41通过真空吸附在第一镂空部31的框架内表面上。第一固定治具3的内表面32与第二固定治具5的内表面51通过真空吸附在一起。第一掩膜光罩4的第二侧面42与第二固定治具5的内表面51之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材7，能够使得柔性基材7和第一掩膜光罩4的第二侧面42彻底接触，柔性基材7彻底吸附平整，从而能够提高曝光的分辨率和曝光线条的均匀性，防止出现重影1和/或锯齿2的问题。使用时，第一固定治具3的第一镂空部31的框架内表面利用真空吸附第一掩膜光罩4的第一侧面41(第一固定治具3利用真空装载第一掩膜光罩4)，将柔性基材7放置在第一掩膜光罩4的第二侧面42上，并将第一固定治具3和第二固定治具5合在一起，再利用真空吸附住第一固定治具3和第二固定治具5，且抽掉第一掩膜光罩4的第二侧面42、第二固定治具5的内表面51与柔性基材7之间的空气，利用大气压使得第一掩膜光罩4的第二侧面42、第二固
定治具5的内表面51与柔性基材7接触紧密。当光源从第一镂空部31通过时，该治具装置能够实现柔性基材7的单面(柔性基材7与第一掩膜光罩4接触的一面)真空接触式曝光，并且能够提高曝光的分辨率和曝光线条的均匀性，防止出现重影1和/或锯齿2的问题，稳定性好，且结构简单，使用方便。
41.在一个具体的实施例中，如图3～7所示，第二固定治具5上设置有与第一镂空部31呈相对布置的第二镂空部52。第二镂空部52的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩8的第一侧面81。柔性基材7通过真空吸附在第二掩膜光罩8的第二侧面82和第一掩膜光罩4的第二侧面42之间，能够使得柔性基材7与第一掩膜光罩4的第二侧面42和第二掩膜光罩8的第二侧面82彻底接触，柔性基材7彻底吸附平整，从而能够实现柔性基材7的双面或单面真空接触式曝光，并且能够提高曝光的分辨率和曝光线条的均匀性，防止出现重影1和/或锯齿2的问题。使用时，第一固定治具3的第一镂空部31的框架内表面利用真空吸附第一掩膜光罩4的第一侧面41(第一固定治具3利用真空装载第一掩膜光罩4)，第二固定治具5的第二镂空部52的框架内表面利用真空吸附第二掩膜光罩8的第一侧面81(第二固定治具5利用真空装载第二掩膜光罩8)，将柔性基材7放置在第一掩膜光罩4的第二侧面42与第二掩膜光罩8的第二侧面82之间，并将第一固定治具3和第二固定治具5合在一起，再利用真空吸附住第一固定治具3和第二固定治具5，且抽掉第一掩膜光罩4的第二侧面42、第二掩膜光罩8的第二侧面82与柔性基材7之间的空气，利用大气压使得第一掩膜光罩4的第二侧面42、第二掩膜光罩8的第二侧面82与柔性基材7接触紧密。当光源从第一镂空部31和/或第二镂空部52通过时，该治具装置能够实现柔性基材7的双面或单面真空接触式曝光，并且能够提高曝光的分辨率和曝光线条的均匀性，防止出现重影1和/或锯齿2的问题，稳定性好，且结构简单，使用方便。
42.在一个具体的实施例中，如图3、图4、图6所示，第一固定治具3的内部设置有与真空泵6相连通的第一回字形真空槽33，第一回字形真空槽33环绕设置在第一镂空部31的外部，通过第一回字形真空槽33能够实现第一固定治具3和第二固定治具5之间以及第一掩膜光罩4和第二固定治具5之间或第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8空气的排气动作(第一掩膜光罩4和第二固定治具5之间的间隙(gap)值＝0，或第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8之间的间隙(gap)值＝0)，并且通过第一回字形真空槽33的设计，能够减缓抽真空的速度，尽可能的排掉柔性基材7与第一掩膜光罩4和第二固定治具5之间或柔性基材7与第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8之间的空气，同时第一回字形真空槽33的设计能够过滤真空管路上的抽真空波动，保证真空环境稳定。
43.在一个具体的实施例中，如图3、图4所示，第一回字形真空槽33的底面上设置有与真空泵6相连通的第一真空孔331，能够便于抽真空，并提高抽真空的效果。
44.在一个具体的实施例中，如图3、图4、图6所示，第一回字形真空槽33的内部框架332形成第一镂空部31的框架。第一回字形真空槽33的内部框架332上设置有与真空泵6相连通的环形第一掩膜光罩真空槽333。第一掩膜光罩4通过第一掩膜光罩真空槽333内的真空吸附在第一回字形真空槽33的内部框架332上，能够避免出现掉落和位移，且稳定性好，可靠性好。
45.在一个具体的实施例中，如图3、图4所示，第一掩膜光罩真空槽333的底面上设置有与真空泵6相连通的第二真空孔3331，能够便于抽真空，并提高抽真空的效果。
46.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第一回字形真空槽33的内部框架332的顶面与第一回字形真空槽33的底面的距离小于第一固定治具3的内表面32与第一回字形真空槽33的底面的距离，能够便于通过放置第一掩膜光罩4而使得治具装置内形成真空环境。
47.在一个具体的实施例中，如图5、图6所示，第二固定治具5的内部设置有与真空泵6相连通的第二回字形真空槽53，第二回字形真空槽53环绕设置在第二镂空部52的外部，通过第二回字形真空槽53能够进一步实现第一固定治具3和第二固定治具5之间以及第一掩膜光罩4和第二固定治具5之间或第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8空气的排气动作(第一掩膜光罩4和第二固定治具5之间的间隙(gap)值＝0，或第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8之间的间隙(gap)值＝0)，并且通过第二回字形真空槽53的设计，能够进一步减缓抽真空的速度，尽可能的排掉柔性基材7与第一掩膜光罩4和第二固定治具5之间或柔性基材7与第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8之间的空气，同时第二回字形真空槽53的设计能够过滤真空管路上的抽真空波动，进一步保证真空环境稳定。
48.在一个具体的实施例中，如图5～7所示，第二回字形真空槽53的内部框架531形成第二镂空部52的框架。第二回字形真空槽53的内部框架531上设置有与真空泵6相连通的第二掩膜光罩真空槽532。第二掩膜光罩8通过第二掩膜光罩真空槽532内的真空吸附在第二回字形真空槽53的内部框架532上，能够避免出现掉落和位移，且稳定性好，可靠性好。
49.在一个具体的实施例中，如图5所示，第二掩膜光罩真空槽532的底面上设置有与真空泵6相连通的第三真空孔5321，能够便于抽真空，并提高抽真空的效果。
50.在一个具体的实施例中，第二回字形真空槽53与第一回字形真空槽33呈相对布置，能够便于抽真空，提高第一固定治具3和第二固定治具5的真空吸附效果，且美观性好。
51.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第二掩膜光罩真空槽532与第一掩膜光罩真空槽333呈相对设置，能够便于真空吸附第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8，使得第一柔性基材7进行单面或双面曝光，且美观性好。
52.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第二回字形真空槽53的槽口宽度与第一回字形真空槽33的槽口宽度相同，能够进一步便于抽真空，提高第一固定治具3和第二固定治具5的真空吸附效果，且美观性好。
53.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第二掩膜光罩真空槽532的槽口宽度与第一掩膜光罩真空槽333的槽口宽度相同，能够进一步便于真空吸附第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8，使得第一柔性基材7进行单面或双面曝光，且美观性好。
54.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第二回字形真空槽53的槽深与第一回字形真空槽33的槽深相同，能够进一步便于抽真空，提高第一固定治具3和第二固定治具5的真空吸附效果，且美观性好。
55.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第二掩膜光罩真空槽532的槽深与第一掩膜光罩真空槽333的槽深相同，能够进一步便于真空吸附第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8，使得第一柔性基材7进行单面或双面曝光，且美观性好。
56.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，第二回字形真空槽53的内部框架531的顶面与第二回字形真空槽53的底面的距离小于第二固定治具5的内表面51与第二回字形真空槽53的底面的距离，能够便于通过放置第二掩膜光罩8而使得治具装置内形成真空环境。
57.在一个具体的实施例中，如图3、图4、图6、图7所示，第一固定治具3的内表面32上
位于第一回字形真空槽33的外部设置有密封圈9，能够提高密封效果。
58.在一个具体的实施例中，如图3、图4、图6、图7所示，密封圈9的数目为多个，能够进一步提高密封效果。
59.在一个具体的实施例中，如图3、图4、图6、图7所示，多个密封圈9绕第一回字形真空槽33呈间隔设置，能够进一步提高密封效果。
60.在一个具体的实施例中，如图3～6所示，第一镂空部31与第二镂空部52的孔径相同，能够便于第一柔性基材7进行单面或双面曝光，且美观性好。
61.在一个具体的实施例中，如图3～5所示，第一固定治具3和第二固定治具5通过连接件10连接，能够提高第一固定治具3和第二固定治具5结合的稳定性和可靠性。
62.在一个具体的实施例中，如图6、图7所示，柔性基材7包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、无色透明聚酰亚胺膜、环烯烃聚合物膜或超复屈折膜。柔性基材7的类型，可以根据实际需要，进行设置。
63.在一个具体的实施例中，如图3所示，第一真空孔331通过气管11连接真空泵6，能够便于抽真空，且稳定性好。
64.在一个具体的实施例中，如图3所示，第二真空孔3331通过气管11连接真空泵6，能够便于抽真空，且稳定性好。
65.在一个具体的实施例中，如图3所示，第三真空孔5321通过气管11连接真空泵6，能够便于抽真空，且稳定性好。
66.在一个具体的实施例中，真空泵6上设置有真空气阀，能够便于调节真空压力，使得真空环境压力为0～80kpa(千帕)。
67.如图1所示，采用本发明的治具装置进行真空接触式曝光，显影后利用2.5d显影镜进行量测，对于不同线条宽度均能在显影后得到平滑线条，有效去除锯齿及重影缺陷(如图8所示)。采用本发明的治具装置能够有效的将第一掩膜光罩4和第二掩膜光罩8上的图形曝光转移到柔性基材7(如图6、图7所示)上，并且能够有效避免出现重影和锯齿问题，符合曝光工艺要求，能够有效提高曝光工艺的解析度。
68.本实用新型的保护范围不限于上述的实施例，显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变形而不脱离本实用新型的范围和精神。倘若这些改动和变形属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围，则本实用新型的意图也包含这些改动和变形在内。
技术特征：1.一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，包括：第一固定治具(3)、第一掩膜光罩(4)、第二固定治具(5)和真空泵(6)；所述第一固定治具(3)用于装载所述第一掩膜光罩(4)并与所述真空泵(6)连接；所述第一固定治具(3)上设置有第一镂空部(31)；所述第一掩膜光罩(4)的第一侧面(41)通过真空吸附在所述第一镂空部(31)的框架内表面上；所述第一固定治具(3)的内表面(32)与所述第二固定治具(5)的内表面(51)通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩(4)的第二侧面(42)与所述第二固定治具(5)的内表面(51)之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材(7)。2.根据权利要求1所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二固定治具(5)上设置有与所述第一镂空部(31)呈相对布置的第二镂空部(52)，所述第二镂空部(52)的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩(8)的第一侧面(81)，所述柔性基材(7)通过真空吸附在所述第二掩膜光罩(8)的第二侧面(82)和所述第一掩膜光罩(4)的第二侧面(42)之间。3.根据权利要求2所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一固定治具(3)的内部设置有与所述真空泵(6)相连通的第一回字形真空槽(33)，所述第一回字形真空槽(33)环绕设置在所述第一镂空部(31)的外部。4.根据权利要求3所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第一真空孔(331)。5.根据权利要求3所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)形成所述第一镂空部(31)的框架，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)上设置有与所述真空泵(6)相连通的第一掩膜光罩真空槽(333)，所述第一掩膜光罩(4)通过所述第一掩膜光罩真空槽(333)内的真空吸附在所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)上。6.根据权利要求5所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一掩膜光罩真空槽(333)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第二真空孔(3331)。7.根据权利要求5所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)的顶面与所述第一回字形真空槽(33)的底面的距离小于所述第一固定治具(3)的内表面(32)与所述第一回字形真空槽(33)的底面的距离。8.根据权利要求5至7中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二固定治具(5)的内部设置有与所述真空泵(6)相连通的第二回字形真空槽(53)，所述第二回字形真空槽(53)环绕设置在所述第二镂空部(52)的外部。9.根据权利要求8所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)形成所述第二镂空部(52)的框架，所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)上设置有与所述真空泵(6)相连通的第二掩膜光罩真空槽(532)，所述第二掩膜光罩(8)通过所述第二掩膜光罩真空槽(532)内的真空吸附在所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)上。10.根据权利要求9所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二掩膜光罩真空槽(532)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第三真空孔
(5321)。11.根据权利要求9所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字形真空槽(53)与所述第一回字形真空槽(33)呈相对布置，所述第二掩膜光罩真空槽(532)与所述第一掩膜光罩真空槽(333)呈相对设置。12.根据权利要求11所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字形真空槽(53)的槽口宽度与所述第一回字形真空槽(33)的槽口宽度相同，所述第二掩膜光罩真空槽(532)的槽口宽度与所述第一掩膜光罩真空槽(333)的槽口宽度相同。13.根据权利要求12所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字形真空槽(53)的槽深与所述第一回字形真空槽(33)的槽深相同，所述第二掩膜光罩真空槽(532)的槽深与所述第一掩膜光罩真空槽(333)的槽深相同。14.根据权利要求9所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字形真空槽(53)的内部框架(531)的顶面与所述第二回字形真空槽(53)的底面的距离小于所述第二固定治具(5)的内表面(51)与所述第二回字形真空槽(53)的底面的距离。15.根据权利要求3至7、9至14中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一固定治具(3)的内表面(32)上位于所述第一回字形真空槽(33)的外部设置有密封圈(9)。16.根据权利要求15所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述密封圈(9)的数目为多个。17.根据权利要求16所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述多个密封圈(9)绕所述第一回字形真空槽(33)呈间隔设置。18.根据权利要求2至7、9至14、16至17中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一镂空部(31)与所述第二镂空部(52)的孔径相同。19.根据权利要求1至7、9至14、16至17中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一固定治具(3)和所述第二固定治具(5)通过连接件(10)连接。20.根据权利要求1至7、9至14、16至17中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述柔性基材(7)包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、无色透明聚酰亚胺膜、环烯烃聚合物膜或超复屈折膜。
技术总结本实用新型公开一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。本实用新型能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。
技术研发人员：于洋 王华 江建国
受保护的技术使用者：浙江鑫柔科技有限公司
技术研发日：2022.01.10
技术公布日：2022/7/5
