1.本技术涉及足浴按摩设备领域，特别涉及一种按摩装置和一种足浴器。
背景技术：2.现有的足浴器，包括足浴器盆体、按摩装置和加热器等，其按摩装置的工作原理一般是按摩装置与按摩部位(例如足部)直接接触产生相对摩擦，以及按压相对应的穴位来实现按摩的效果，这种传统的摩擦按摩方式，用户会感觉到刮脚甚至出现足部磨损的情况，使用体验不佳。
技术实现要素：3.本技术的一个目的在于提出一种按摩装置，可以极大降低刮脚概率，且按摩效果好。
4.为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：
5.本技术一个方面的技术方案提出了一种按摩装置，包括：按摩结构；驱动源，与所述按摩结构传动连接，所述驱动源能驱动所述按摩结构；按摩垫，位于所述按摩结构的一侧，且具有面对所述按摩结构设置的第一表面和背对所述按摩结构设置的第二表面，所述按摩垫的所述第二表面上设有相对于所述第二表面凸起设置的凸粒。
6.根据本技术的一些技术方案，所述按摩结构限定有按摩区域；所述按摩结构包含位于所述按摩区域的一个或多个按摩头；所述按摩垫覆盖所述按摩区域，且所述按摩垫包含有一个或多个对应部位，所述对应部位与至少一个所述按摩头位置相对地设置或者与至少一个所述按摩头的活动范围位置相对地设置，所述对应部位的所述第二表面上设置有所述凸粒，所述对应部位上的所述凸粒为多个且间隔分布。
7.根据本技术的一些技术方案，其中的一个或多个所述对应部位被构造为隆起部位，所述隆起部位的所述第一表面包括凹面，所述隆起部位的所述第二表面包括凸面，所述凸面上设置有所述凸粒，其中，对应于所述隆起部位的所述按摩头在所述驱动源的驱动下能部分地伸入到所述凹面围成的空间内。
8.根据本技术的一些技术方案，所述隆起部位的数量为两个或两个以上，每个所述隆起部位的所述凸面上均设有所述凸粒，相邻的隆起部位之间的所述第二表面上无所述凸粒。
9.根据本技术的一些技术方案，其中的一个或多个所述对应部位被构造为平垫部位，所述平垫部位的所述第二表面上设置有所述凸粒。
10.根据本技术的一些技术方案，所述按摩垫沿长度方向限定有第一端和第二端，所述按摩垫的所述第一端与所述第二端之间的位置处依次限定有第一平垫部位、第一隆起部位和第二隆起部位，所述第一平垫部位、所述第一隆起部位和所述第二隆起部位各自的所述第二表面上分别设置有所述凸粒；或所述按摩垫包括第二平垫部位和第三隆起部位，所述第三隆起部位被限定在所述按摩垫能用于对应足弓的位置处，所述第三隆起部位的部分
边缘与所述第二平垫部位连接，所述第三隆起部位和所述第二平垫部位各自的所述第二表面上分别设置有所述凸粒。
11.根据本技术的一些技术方案，所述按摩头在所述驱动源的驱动下相对于所述对应部位的运动具有预设方向，所述按摩头为多个，每个所述按摩头上的所述按摩垫的所述对应部位均设有多个所述凸粒，且所述对应部位上的所述凸粒沿着所述预设方向间距地排列设置。
12.根据本技术的一些技术方案，其中的一个或多个所述按摩头为第一按摩头，所述第一按摩头在所述驱动源的驱动下能相对于所述对应部位移动，对应于所述第一按摩头的所述对应部位的所述第二表面上设置有阵列地排布的多个所述凸粒；和/或其中的一个或多个所述按摩头为第二按摩头，所述第二按摩头在所述驱动源的驱动下能相对于所述对应部位旋转或圆周运动，对应于所述第二按摩头的所述对应部位的所述第二表面上设置有圆周排列地多个所述凸粒。
13.根据本技术的一些技术方案，所述按摩垫的所述第二表面限定有沿长度方向排列设置的第一区域位置和第二区域位置，所述第一区域位置相比所述第二区域位置更靠近于所述按摩垫的前端，所述第一区域位置和所述第二区域位置分别设置有所述凸粒；其中，所述第一区域位置处的所述凸粒的体积大于所述第二区域位置处的所述凸粒的体积，和/或所述第一区域位置处的所述凸粒的最高点位置高于所述第二区域位置处的所述凸粒的最高点位置。
14.根据本技术的一些技术方案，所述按摩垫的所述第二表面还限定有第三区域位置，所述第三区域位置沿所述按摩垫的长度方向位于所述第一区域位置与所述第二区域位置之间，所述第三区域位置设置有所述凸粒；其中，所述第一区域位置处的所述凸粒的体积大于所述第三区域位置处的所述凸粒的体积，和/或所述第三区域位置处的所述凸粒的最高点位置高于所述第二区域位置处的所述凸粒的最高点位置；其中，所述第一区域位置能用于对应前脚掌，所述第二区域位置能用于对应足跟，所述第三区域位置能用于对应足弓。
15.根据本技术的一些技术方案，所述凸粒被设置为沿凸起高度方向截面积变小的结构；和/或所述凸粒自所述第二表面的凸起高度的取值范围为0.1mm～30mm，所述凸粒远离所述第二表面的一端的面积的取值范围为大于0且小于等于5平方毫米。
16.根据本技术的一些技术方案，所述凸粒的形状为锥形，或所述凸粒包含锥形部及所述锥形部与所述第二表面之间的柱体部。
17.根据本技术的一些技术方案，所述按摩装置还包括：耐磨层，设置于所述按摩垫与所述按摩结构之间；所述按摩垫为软胶垫。
18.根据本技术的一些技术方案，所述按摩装置还包括：框体，所述框体配置为能装配所述按摩垫；所述框体上设置有使所述框体能被装配连接的连接部以及用于供所述连接部进行密封连接的密封件，所述框体形成有贯穿的避让通道，所述避让通道沿贯穿方向的一端形成第一开口，另一端形成第二开口，所述按摩垫与所述框体连接并遮挡所述第一开口，所述按摩结构沿所述第二开口伸入所述避让通道；或者所述按摩垫上设置有配合边，所述配合边能被所述框体压紧，使得所述按摩垫能被压紧固定。
19.本技术另一方面的实施例提供了一种足浴器，包括：足浴器盆体，所述足浴器盆体内设有足浴腔体和电气安装腔；上述任一技术方案中所述的按摩装置，所述按摩装置的按
摩结构设置在所述电气安装腔内，所述按摩装置的按摩垫位于所述足浴腔体的底部且与所述足浴腔体的底部连接以密封所述按摩装置，所述按摩垫的所述第一表面朝向所述电气安装腔，所述按摩垫的所述第二表面朝向所述足浴腔体。
20.在本技术中，在按摩结构的一侧设置按摩垫，进行按摩时，按摩垫大致位于按摩结构与待按摩部位(如足部)之间，按摩结构按摩过程中不会直接与待按摩部位接触摩擦，从而极大地降低了待按摩部位被按摩结构刮擦、刮损等风险性，提升按摩舒适体验。且按摩垫上用于接触待按摩部位的一侧的表面(也即第二表面)设置有凸粒，利用凸粒可以强化对待按摩部位的刺激作用，这在一定程度上可以补偿由于按摩垫位于待按摩部位与按摩结构之间可能存在的按摩的刺激作用不足等问题，更好地保障按摩舒适度。
21.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本技术。
附图说明
22.通过参照附图详细描述其示例实施例，本技术的上述和其它目标、特征及优点将变得更加显而易见。
23.图1是一实施方式示出的按摩装置的分解结构示意图。
24.图2是图1中所示按摩垫的结构示意图。
25.图3是图1中所示按摩结构的结构示意图。
26.图4是图1中所示框体的结构示意图。
27.图5是一实施方式示出的按摩垫的结构示意图。
28.图6是一实施方式示出的按摩垫的主视结构示意图。
29.图7是图6中所示按摩垫的立体结构示意图。
30.图8是一实施方式示出的按摩垫的剖面结构示意图。
31.图9是一实施方式示出的足浴器的剖面结构示意图。
32.图10是图9中所示m部的放大结构示意图。
33.图中标记：
34.按摩机构10；
35.按摩结构100；按摩头a 110；第一凸起111；第二凸起112；转盘113；
36.按摩头b 120；转动件121；摆动件122；第一凸柱123；第二凸柱124；导柱125；按摩头c 130；滑块131；偏心杆132；按摩头d 140；自转轮141；凸包142；按摩头e 150；摆动轮151；第三凸起152；
37.框体200；凸台210；避让通道211；侧壁212；连接部213；导向孔214；密封件216；
38.按摩垫300；第一表面310；第二表面320；第一区域位置321；第二区域位置322；第三区域位置323；第一隆起部位331；第二隆起部位332；第三隆起部位333；第一平垫部位334；第二平垫部位335；配合边340；套接部350；
39.凸粒400；凸粒a 401；凸粒b 402；凸粒c 403；凸粒d 404；凸粒g 407；凸粒h 408；凸粒i409；柱体部411；锥形部412；
40.耐磨层500；
41.驱动源20；足浴器盆体30；足浴腔体31；电气安装腔32；盖体40。
140或按摩头e 150进行理解)。示例地，按摩区域可以理解为按摩结构100用于提供按摩作用的部位，具体例如，按摩区域包含按摩头，或者更进一步包含相邻按摩头之间的位置。
54.其中，按摩垫300覆盖按摩区域，且按摩垫300包含有一个或多个对应部位(对应部位具体可以参照第一隆起部位331或第二隆起部位332或第三隆起部位333或第一平垫部位334或第二平垫部位335进行理解)，对应部位与至少一个按摩头位置相对地设置或者与至少一个按摩头的活动范围位置相对地设置，对应部位的第二表面320上设置有凸粒400，对应部位上的凸粒400的数量为多个，且凸粒400之间间距地布置。这样，凸粒400可跟随按摩过程中按摩头的运动形成起伏运动，从而更进一步强化了对待按摩部位的刺激作用，可以更好地补偿由于按摩垫300位于待按摩部位与按摩结构100之间可能存在的刺激作用不足等问题。且这在保障按摩舒适度的同时，可在一定程度上降低对按摩头的运动幅度需求，这样，按摩结构100对按摩垫300的损伤更小，可以更好地保障产品寿命。
55.在某些实施例中，其中的一个或多个对应部位被构造为隆起部位(隆起部位具体可以参照第一隆起部位331或第二隆起部位332或第三隆起部位333进行理解)，隆起部位的第一表面310包括凹面，隆起部位的第二表面320包括凸面，其中，对应于隆起部位的按摩头(例如，可具体参照附图10中按摩头e 150或按摩头d 140进行理解)在驱动源20的驱动下能部分地伸入到凹面围成的空间内。这样，按摩头具有更充裕的活动空间，这样，可以更好地保障按摩头对待按摩部位的按摩刺激效果，同时，兼顾地减少了按摩垫300在按摩头起伏的过程中受到的拉扯，这样可以更好地保障按摩垫300的装配稳定性，以及降低按摩垫300被按摩头损伤的风险性。同时，通过减少了按摩垫300的受力，也可以相应减少按摩垫300与待按摩部位之间相对运动，从而进一步减少待按摩部位受到的刮擦和磨损的概率与风险性。
56.进一步地，隆起部位的凸面上设置有凸粒400。这样，隆起部位的凸粒400会随着按摩头起伏运动，从而进一步强化对待按摩部位的按摩刺激作用，提升按摩体验。且凸粒400在一定程度上可以减少按摩垫300与待按摩部位之间的滑动摩擦，更进一步地降低待按摩部位受到的磨损。
57.更进一步地，按摩垫300上的隆起部位的数量为两个或两个以上，每个隆起部位的凸面上均设置有凸粒400，相邻的隆起部位之间的第二表面上无凸粒。这样，既保障了凸面上的凸粒400能跟随按摩头起伏运动以强化按摩效果，且使得隆起部位之间的相对运动可以更灵活，不会被凸粒卡滞，并且也使得按摩垫300成型脱模更加容易，实现降低成本。
58.在某些实施例中，其中的一个或多个对应部位被构造为平垫部位(具体例如图5和图7所示，平垫部位可以参照第一平垫部位334或第二平垫部位335进行理解)，平垫部位的第二表面320上设置有凸粒400。平垫部位的第二表面320上的凸粒400与待按摩部位接触，可以强化对待按摩部位的按摩刺激效果，提升按摩体验。
59.在某些实施例中，如图6和图7所示，按摩垫300沿长度方向限定有第一端和第二端，按摩垫300的第一端与第二端之间的位置处依次限定有第一平垫部位334、第一隆起部位331和第二隆起部位332，第一平垫部位334、第一隆起部位331和第二隆起部位332各自的第二表面320上分别设置有凸粒400。这样，第一平垫部位334与第一隆起部位331及第二隆起部位332会对待按摩部位的不同位置形成不同的按摩刺激效果，从而可以提供更丰富的按摩模式，进一步提升按摩体验。
60.举例而言，如图6、图7所示，第一平垫部位334、第一隆起部位331和第二隆起部位
402之间沿预设方向s2间距地阵列设置。
68.举例而言，其中的一个或多个按摩头为第二按摩头，第二按摩头在驱动源20的驱动下能相对于对应部位旋转或圆周运动，对应于第二按摩头的对应部位的第二表面320上设置有圆周排列地多个凸粒400。
69.具体示例地，如图2所示，按摩垫300的第一区域位置321能够用于与可以沿着预设方向s1相对于按摩垫300进行圆周运动或旋转运动的第二按摩头对应设置。按摩垫300的第一区域位置321设置有多个凸粒g 407，凸粒g 407之间沿预设方向s1间距地周向排列设置。
70.在某些实施例中，按摩垫300的第二表面320限定有沿按摩垫300的长度方向排列设置的第一区域位置321和第二区域位置322，第一区域位置321相比第二区域位置322更靠近于按摩垫300的前端，第一区域位置321和第二区域位置322分别设置有凸粒400，其中，第一区域位置321处的凸粒400的体积大于第二区域位置322处的凸粒400的体积。其中按摩垫的前端为对应脚趾的区域。
71.当用户坐着享受足底按摩时，身体通常靠在凳子或靠椅上，这时，根据人体惯性，前脚掌会微翘起，本实施例将第一区域位置321处的体积设计得较第二区域位置322处的凸粒400而言更大一些，可以使得第一区域位置321处的凸粒400较第二区域位置322处的凸粒400而言具有相对更高一些的形状保持能力，这样，可以相应增大第一区域位置321处的凸粒400对前脚掌位置的按摩刺激力度，从而兼顾于人体惯性使得足底前后位置的按摩感受趋于均匀，提升按摩体验。
72.在某些实施例中，按摩垫300的第二表面320限定有沿按摩垫300的长度方向排列设置的第一区域位置321和第二区域位置322，第一区域位置321相比第二区域位置322更靠近于按摩垫300的前端，第一区域位置321和第二区域位置322分别设置有凸粒400，其中，第一区域位置321处的凸粒400的最高点位置高于第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置。也即，具体如图6和图8所示，凸粒a 401的最高点位置高于凸粒b 402的最高点位置。
73.可以更具体理解为，第一区域位置321处的位置最高的一个凸粒400的最高点位置高于第二区域位置322处的其中一个或多个凸粒400的最高点位置。
74.当用户坐着享受足底按摩时，身体通常靠在凳子或靠椅上，这时，根据人体惯性，前脚掌会微翘起，本实施例设计第一区域位置321处的凸粒400的最高点位置高于第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置，这样，可更好地适应前脚掌微翘起的人体惯性，使得第一区域位置321处的凸粒400可以充分接触微翘起的前脚掌，从而兼顾于人体惯性使得足底前后位置的按摩感受趋于均匀，提升按摩体验。
75.可选地，第一区域位置321处的凸粒400的最高点位置比第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置高且高度落差值h1的取值范围为0.1mm～50mm。这样可以更好地保障第一区域位置321处的凸粒400与前脚掌之间的接触效果，提升足底前后位置的按摩均匀性，提升按摩体验。
76.进一步可选地，第一区域位置321处的凸粒400的最高点位置比第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置高且高度落差值h1的取值范围为1mm～45mm。
77.更进一步可选地，第一区域位置321处的凸粒400的最高点位置比第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置高且高度落差值h1的取值范围为5mm～20mm。
78.在某些实施例中，按摩垫300的第二表面320还限定有第三区域位置323，第三区域
位置323沿按摩垫300的长度方向位于第一区域位置321与第二区域位置322之间，第三区域位置323设置有凸粒400，其中，第一区域位置321处的凸粒400的体积大于第三区域位置323处的凸粒400的体积。
79.当用户坐着享受足底按摩时，身体通常靠在凳子或靠椅上，这时，根据人体惯性，前脚掌会微翘起，本实施例将第一区域位置321处的体积设计得较第三区域位置323处的凸粒400而言更大一些，可以使得第一区域位置321处的凸粒400较第三区域位置323处的凸粒400而言具有相对更高一些的形状保持能力，这样，可以相应增大第一区域位置321处的凸粒400对前脚掌位置的按摩刺激力度，从而兼顾于人体惯性使得足底前后位置的按摩感受趋于均匀，提升按摩体验。
80.在某些实施例中，按摩垫300的第二表面320还限定有第三区域位置323，第三区域位置323沿按摩垫300的长度方向位于第一区域位置321与第二区域位置322之间，第三区域位置323设置有凸粒400，其中，第三区域位置323处的凸粒400的最高点位置高于第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置。也即，具体如图6和图8所示，凸粒c 403的最高点位置高于凸粒b 402的最高点位置。
81.可以更具体理解为，第三区域位置323处的位置最高的一个凸粒400的最高点位置高于第二区域位置322处的其中一个或多个凸粒400的最高点位置。
82.当用户坐着享受足底按摩时，身体通常靠在凳子或靠椅上，这时，根据人体惯性，足弓部位相对于脚后会跟微翘起，本实施例设计第三区域位置323处的凸粒400的最高点位置高于第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置，这样，可更好地适应前足弓处微翘起的人体惯性，使得第三区域位置323处的凸粒400可以充分接触微翘起的足弓位置，从而兼顾于人体惯性使得足底前后位置的按摩感受趋于均匀，提升按摩体验。
83.可选地，第三区域位置323处的凸粒400的最高点位置比第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置高且高度落差值h2的取值范围为0.1mm～30mm。这样可以更好地保障第三区域位置323处的凸粒400与足弓之间的接触效果，提升足底前后位置的按摩均匀性，提升按摩体验。
84.进一步可选地，第三区域位置323处的凸粒400的最高点位置比第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置高且高度落差值h2的取值范围为1mm～20mm。
85.更进一步可选地，第三区域位置323处的凸粒400的最高点位置比第二区域位置322处的凸粒400的最高点位置高且高度落差值h2的取值范围为5mm～15mm。
86.在某些实施例中，凸粒400为实心结构。这样，凸粒400不容易损坏，可以更好地保障产品寿命，且凸粒400不容易扁塌，对足底的刺激效果更好。
87.在某些实施例中，凸粒400自第二表面320的凸起高度的取值范围为0.1mm～30mm。这样，凸粒400对足底的刺激效果更好，且该凸起高度范围内的凸粒400不容易损坏。
88.可以理解，凸粒400自第二表面320的凸起高度可以理解为同一凸粒400的远离第二表面320的一端至第二表面320之间的垂直距离。
89.可选地，凸粒400自第二表面320的凸起高度的取值范围为1mm～15mm。
90.可选地，凸粒400自第二表面320的凸起高度的取值范围为3mm～10mm。
91.进一步可选地，凸粒400远离第二表面320的一端的面积的取值范围为大于0且小于等于5平方毫米。这样，凸粒400对被凸粒400的接触的待按摩部位的刺激效果更好。
92.进一步可选地，凸粒400远离第二表面320的一端的面积的取值范围为大于0.5且小于等于4平方毫米。
93.更进一步可选地，凸粒400远离第二表面320的一端的面积的取值范围为大于1且小于等于3平方毫米。
94.在某些实施例中，凸粒400远离第二表面320的一端的面积与连接于第二表面320的一端的面积之比小于1。一方面，保障了凸粒400与第二表面320连接的一端之间的连接可靠性，另一方面，利于实现凸粒400远离第二表面320的一端的截面积较小，从而提升对待按摩部位压强，作用于待按摩部位时，可以提升对待按摩部位的穴位等位置的刺激效果。且该造型的凸粒400，可以具有更好的形状保持能力，凸粒400不容易歪倒，按摩效果更好。
95.在某些实施例中，凸粒400被设置为沿凸起高度方向截面积变小的结构。一方面，保障了凸粒400与第二表面320连接的一端之间的连接可靠性，另一方面，利于实现凸粒400远离第二表面320的一端(即是与人体脚底接触的一端)的截面积较小，从而提升对待按摩部位压强，作用于待按摩部位时，可以提升对待按摩部位的穴位等位置的刺激效果。且该造型的凸粒400，可以具有更好的形状保持能力，凸粒400不容易歪倒，按摩效果更好。
96.具体示例地，如图7和图8所示，凸粒400的形状为锥形。
97.具体示例地，如图2所示，凸粒400包含锥形部412及锥形部412与第二表面320之间的柱体部411。
98.在某些实施例中，凸粒400的截面形状为圆形或多边形(例如三角形、四边形、五边形等)。这样，凸粒400成型质量可更好，生产也更简单方便。
99.在某些实施例中，凸粒400与按摩垫300为一体成型连接。这样，可以通过一体注塑获得带有凸粒400的按摩垫300，加工更方便，生产质量也更稳定。
100.在某些实施例中，按摩垫300为软胶垫。
101.可选地，软胶垫可具体采用如tpe(英文全称是thermo plastic elastomer，中文全称是热塑性弹性体)、tpr(英文全称是thermo plastic rubber，中文全称是热塑性橡胶)或硅胶等材料制成，为用户提供更舒适的按摩触感。
102.在某些实施例中，如图1所示，按摩装置还包括耐磨层500，耐磨层500设置于按摩垫300与按摩结构100之间。利用耐磨层500，可以降低按摩垫300被按摩结构100磨破的风险性，可以理解，按摩垫300(具体例如软胶垫)质地较柔软，与按摩结构100的按摩头进行接触时，按摩头与按摩垫300之间的相对运动容易导致按摩垫300被拉扯或被磨破，通过设置耐磨层500位于按摩垫300与按摩结构100之间，这样，按摩头的力作用到耐磨层500上，从而极大地降低了按摩垫300被磨破的风险性，延长了产品的寿命。
103.可选地，耐磨层例如为耐磨布。
104.可选地，耐磨层与按摩垫300之间可分离，和/或，耐磨层与按摩结构100之间可分离，这样，便于耐磨层的更换。例如，耐磨层与按摩垫300之间可拆卸地粘贴，或者耐磨层与按摩垫300之间周边被可拆卸地夹紧设置。又或者，耐磨层与按摩结构100之间可拆卸地粘贴，或者耐磨层与按摩结构100之间周边被可拆卸地夹紧设置等。
105.可选地，软胶垫的硬度的取值在邵氏硬度为5度～80度的范围内。
106.这样，既良好地保障了软胶垫的柔软性，使得软胶垫对于按摩头的按摩效果的还原程度更好，对按摩头的运动干扰小，又良好地保障了软胶垫保持形状的能力以及使用可
靠性，软胶垫破损风险性极大降低。
107.当然，可以理解的是，对于本领域技术人员而言，软胶垫的硬度的取值在邵氏硬度为5度～80度的范围之外做细微调整也不是没有可能，例如，可在端值
±
4度的偏差范围内进行调整，具体如软胶垫的硬度的取值在邵氏硬度为[1，5)度的范围内，或具体如，软胶垫的硬度的取值在邵氏硬度为(80，85]度的范围内等，可以理解的是，这些微调均属于本设计构思的范围之内，并合理地被认为应当纳入本设计的保护范围。
[0108]
可选地，软胶垫的硬度的取值在邵氏硬度为10度～60度的范围内。
[0109]
可选地，软胶垫的硬度的取值在邵氏硬度为20度～40度的范围内。
[0110]
在某些实施例中，如图1和图4所示，按摩装置还包括框体200，框体200配置为能装配按摩垫300。这样，更方便按摩垫300的装配，更利于保障按摩垫300装配精度。
[0111]
在某些实施例中，框体200上设置有使框体200能被装配连接的连接部213以及用于供连接部213进行密封连接的密封件216，框体200形成有贯穿的避让通道211，避让通道211沿贯穿方向的一端形成第一开口，另一端形成第二开口，按摩垫300与框体200连接并遮挡第一开口，按摩结构100沿第二开口伸入避让通道211。这样，按摩垫300与框体200连接并遮挡框体200的第一开口，框体200通过连接部213及密封件216密封连接，如此，可以实现按摩垫300对按摩结构100密封格挡以及防水，利于按摩结构100的日常防护、减少老化，以及降低驱动源20进水风险性。
[0112]
在某些实施例中，按摩垫300上设置有配合边340，配合边340能被框体200压紧，使得按摩垫300能被压紧固定。这样，按摩垫300实现格挡在按摩结构100与待按摩部位之间以减少摩擦，并且实现按摩垫300供框体200密封装配，节省了密封件216的需求，实现产品零部件数量的精简。
[0113]
如图9所示，本技术另一方面的实施例提供了一种足浴器，包括：足浴器盆体30和上述任一实施例中所述的按摩装置。
[0114]
足浴器盆体30内设有足浴腔体31和电气安装腔32。按摩装置的按摩结构100设置在电气安装腔32内。按摩装置的按摩垫300位于足浴腔体31的底部，且按摩垫300与足浴腔体31的底部连接以密封按摩装置。按摩垫300的第一表面朝向电气安装腔32，按摩垫300的第二表面朝向足浴腔体31。
[0115]
本实施例提供的足浴器，用户将足部伸入足浴器盆体30内并置于按摩垫300上接受按摩时，按摩垫300格挡在用户的足部与按摩装置的按摩结构100之间，这样，按摩结构100不会直接刮擦用户的足部，从而极大地降低了待按摩部位被按摩结构100刮擦、刮损等风险性，提升按摩舒适体验。且按摩垫300上用于接触待按摩部位的一侧的表面(也即第二表面320)设置有凸粒400，这样，凸粒400可跟随按摩过程中按摩结构100的起伏运动，从而强化对待按摩部位的刺激作用，这在一定程度上可以补偿由于按摩垫300位于待按摩部位与按摩结构100之间可能存在的刺激作用不足等问题，保障按摩舒适度的同时，可相对地降低按摩结构100按摩动作幅度需求，这样，按摩结构100对按摩垫300的损伤更小，可以更好地保障产品寿命。
[0116]
进一步举例地，如图9和图10所示，足浴腔体31与电机安装腔之间相互分隔。具体举例地，足浴腔体31的底部设置安装口，框体200设置于足浴腔体31的底部，并与安装口之间密封连接，框体200上的按摩垫300密封框体200上的避让通道211，从而实现安装口被密
封。至少一部分电气安装腔32体位于足浴腔体31的下方，驱动源20设置于电气安装腔32体内，按摩结构100与驱动源20连接，并且按摩结构100的一部分(如按摩头)伸入框体200的避让通道211。
[0117]
更进一步地，足浴器盆体30顶部设置盆口，足浴器还可包括盖体40，盖体40盖合在盆口上。
[0118]
其中，盖体40上设有控制面板，用于控制该足浴器内的电子元器件。而足浴器本身带有的常规功能，如加热器、排水管、水泵等，在该足浴器里面都是具备的，对于本领域技术人员来说应当理解。
[0119]
具体实施例1：
[0120]
如图1所示，本实施例提供了一种按摩装置，包括对称设置的两组按摩机构10。每组按摩机构10包括按摩垫300、框体200、按摩结构100等。
[0121]
按摩垫300为软胶垫，硬度的取值在邵氏硬度为5度～80度的范围内。
[0122]
如图1所示，按摩装置还包括驱动源20。驱动源20与按摩结构100传动设置，用于驱动按摩结构100运动以进行按摩。
[0123]
其中，具体示例地，如图4所示，框体200上沿前端到后端的方向排列设置有三个避让通道211，其中靠前端的两个避让通道211为圆形，靠后端的一个避让通道211为长条孔。框体200周圈间距地设置有多个连接部213，连接部213具体例如为带通孔的凸耳，用于供螺钉穿过，使得框体200能被螺钉紧固安装于载体(例如为足浴器盆体30)上。
[0124]
连接部213与载体之间可以进一步设置密封件216，密封件216用于密封两者之间的缝隙。这样，按摩垫300密封框体200上的避让通道211，连接部213与载体之间通过密封件216密封，这样，可以实现对按摩结构100有效密封封装，减少按摩结构100的水汽腐蚀、老化，并且降低驱动源20进水风险。
[0125]
如图4所示，框体200设置有凸台210，凸台210具有侧壁212和顶壁，避让通道211设置在顶壁上。如图2所示，按摩垫300周圈设置套接部350，套接部350嵌套在侧壁212的外侧，使得按摩垫300被连接于框体200，并且按摩垫300遮挡框体200上的避让通道211的一端的开口。
[0126]
按摩结构100包括按摩头a 110、按摩头b 120、按摩头c 130。
[0127]
如图3所示，按摩头a 110包括转盘113以及设置在转盘113上的第一凸起111和第二凸起112，具体如，第一凸起111和第二凸起112的数量分别为2个，当然，第一凸起111和/或第二凸起112的数量可以根据具体需求做加量或减量地调整。第一凸起111的凸起高度大于第二凸起112，第一凸起111与第二凸起112交替地沿转盘113的周向间距地排列设置。转盘113的中心设置轴孔，能供转轴伸入以供转轴驱动转盘113进行转动。按摩头a 110的第一凸起111和第二凸起112伸入框体200靠前端的一个避让通道211内，并被按摩垫300的第一区域位置321遮挡覆盖。
[0128]
按摩头b 120包括转动件121和摆动件122，转动件121位于摆动件122背对按摩垫300的一侧。转动件121与摆动件122之间设置有凸轮结构，当转动件121转动，利用凸轮结构带动摆动件122摆动。可选地，如图3所示，摆动件122上设置有第一凸柱123和第二凸柱124，摆动件122的第一凸柱123和第二凸柱124伸入框体200位于前后端之间的中部位置的避让通道211内，并被按摩垫300的第三区域位置323遮挡覆盖，其中，第一凸柱123的凸起高度比
第二凸柱124的凸起高度要高，第一凸柱123相比于第二凸柱124靠按摩垫300的内侧设置，用于对应足部的足弓位置。进一步地，摆动件122上还设置有导柱125，导柱125伸入相应避让通道211两侧的导向孔214内，摆动件122在转动件121的驱动下具体绕导柱125来回摆动。
[0129]
按摩头c 130包括滑块131，滑块131伸入框体200靠后端的避让通道211(也即长条孔)内，并能沿着长条孔滑动，且滑块131被按摩垫300的第二区域位置322遮挡覆盖。
[0130]
可选地，按摩头c 130还包括偏心杆132，偏心杆132偏心连接于转动件121，这样，当转动件121转动，使得偏心杆132沿长条孔来回滑动。
[0131]
驱动源20与转盘113及转动件121相连，用于驱动转盘113及转动件121转动。更详细举例地，驱动源20包括电机和传动机构，传动机构包括齿轮箱或减速机，传动机构与电机连接，并且与转盘113及转动件121连接，电机能通过传动机构带动转盘113及转动件121。这样，同一电机实现运动，模式不同的多个按摩头进行运动，按摩模式更丰富。可选地，同一驱动源20与两组按摩机构10相连，能同时驱动两组按摩机构10进行按摩。更利于产品的部件集成化设置。
[0132]
其中，按摩头a 110、按摩头b 120、按摩头c 130位于按摩垫300的一侧，这样，按摩垫300可以隔开足底与按摩头a 110、按摩头b 120、按摩头c 130，按摩头a 110、按摩头b 120、按摩头c 130的摩擦力不会直接作用到足底，从而降低了足底被刮擦、磨损的风险性。
[0133]
按摩垫300背对于按摩头a 110、按摩头b 120、按摩头c 130的表面上设置有多个凸粒400，可以强化对足底穴位的刺激作用，提升按摩效果。
[0134]
按摩垫300从前端至后端的方向上，依次限定有第一区域位置321、第三区域位置323和第二区域位置322，第一区域位置321对应于按摩头a 110设置，第三区域位置323对应于按摩头b 120设置，第二区域位置322对应于按摩头c 130设置。
[0135]
第一区域位置321具体用于对应足部的前脚掌区域。
[0136]
第三区域位置323具体用于对应足弓区域。
[0137]
第二区域位置322具体用于对应足部的脚后跟区域。
[0138]
在按摩垫300上，第一区域位置321被设置成为平面垫体，以作为第二平垫部位335一部分。第一区域位置321的外表面(即第二表面320)上设置有凸粒g 407。凸粒g 407的数量为多个，兼顾于转盘113转动使得第一凸起111及第二凸起112相对于第一区域位置321的内表面做圆周运动，可选地设置凸粒g 407沿周向间距地布置，使凸粒g 407形成圆周排布。
[0139]
在按摩垫300上，第三区域位置323靠内侧的部位构造为第三隆起部位333。靠外侧的部位构造为平面垫体，以作为第二平垫部位335一部分。其中，按摩头b 120的第一凸柱123对应于第三隆起部位333的凹陷侧，按摩头b 120的第二凸柱124对应于第三区域位置323的平面垫体。第三隆起部位333的凸面以及第三区域位置323的平面垫体外表面均设置有凸粒i409，凸粒i409的数量为多个，凸粒i409之间间距地设置。
[0140]
在按摩垫300上，第二区域位置322被设置成为平面垫体，以作为第二平垫部位335一部分。第二区域位置322的外表面(即第二表面320)上设置有凸粒h 408。凸粒h 408的数量为多个，兼顾于滑块131沿预设方向s2来回滑动，可选地设置凸粒h 408沿预设方向s2间距地布置，使凸粒h 408形成阵列排布。
[0141]
这样，可以使得凸粒400更好地适配按摩头的运动，使得对足部的按摩更加舒适。
[0142]
凸粒g 407、凸粒i409、凸粒h 408中至少一者相对于按摩垫300的第二表面320的
凸起高度的取值范围为0.1mm～30mm。
[0143]
可选地，按摩垫300上的凸粒400具体设置为根部大、顶部小的结构。
[0144]
具体例如，按摩垫300上的凸粒400为两段式形状，具体包括柱体部411和锥形部412，柱体部411的一端与按摩垫300的第二表面320结合在一起，另一端与锥形部412的底面结合在一起。凸粒400的顶端位置与根部位置的截面积之比小于1。可以更好地强化对足底的穴位刺激效果，同时更好地保障凸粒400的形状维持能力，使得凸粒400不容易损坏或扁塌。
[0145]
为适应大多数人的足部，凸粒400的顶端的相对高度特征配置为：
[0146]
用于对应于足弓处的凸粒400的顶端位置要高于用于对应于脚后跟位置的凸粒400的顶端，高度落差值的取值范围为0.1mm～30mm。也即，凸粒i409的最高点位置高度比凸粒h 408的最高点的位置高度要高，且高度差值的取值范围为0.1mm～30mm。
[0147]
用于对应于前脚掌的凸粒400的顶端位置要高于用于对应于后脚跟位置的凸粒400的顶端，高度落差值的取值范围为0.1mm～50mm。也即凸粒g 407的最高点位置高度比凸粒h 408的最高点的位置高度要高，且高度差值的取值范围为0.1mm～50mm。
[0148]
此外，由于用户坐着享受足部按摩时，身体通常靠在凳子或靠椅上，这时，前脚掌会微翘起，或足弓相对于脚后跟会微翘起。本实施例中，设计凸粒g 407高于凸粒h 408，和/或凸粒i409高于凸粒h 408，这样，能在人体放松状态下也能对前脚掌及足弓进行较佳的按摩。
[0149]
更进一步地，凸粒g 407的体积大于凸粒h 408的体积。和/或凸粒g 407的体积大于凸粒i409的体积。这样，更好地兼顾了人体在坐着享受足底按摩时，前脚掌位置微翘起的动作形态，以及用于对应于前脚掌的第一区域位置321的凸粒g 407的顶端位置高度更高的设计等因素，通过使得用于对应于前脚掌的第一区域位置321的凸粒g 407体积更大，可以更好地保障第一区域位置321处的凸粒g 407具有更高的强度，从而更好地保障对前脚掌部位的刺激效果。
[0150]
可选地，为保证对足底穴位的刺激作用，凸粒400的顶端位置的截面积，也即凸粒400远离按摩垫300的第二表面320的一端的截面积小于5平方毫米。
[0151]
进一步可选地，凸粒400的顶端位置的截面积的取值范围为1平方毫米～3平方毫米。
[0152]
可选地，凸粒400的截面积为圆形，当然，在其他实施例中，也可以设置凸粒400的界面为多边形。
[0153]
本具体实施例提供的按摩装置，按摩垫300可以格挡在足部与按摩结构100之间，从而可以降低足部被按摩结构100摩擦、磨损等风险性，且按摩垫300用于接触足部的一侧的表面上设置凸粒400，凸粒400能随着按摩头的运动起伏，从而强化了对足底穴位的刺激效果，可以避免因足部与按摩结构100之间有按摩垫300导致按摩刺激效果减弱等问题，更好地保障了按摩效果。
[0154]
具体实施例2：
[0155]
如图5所示，相比上述具体实施例1，区别之处包括：
[0156]
在按摩垫300上，第一区域位置321被设置成为平面垫体，以作为第二平垫部位335一部分。第一区域位置321的外表面(即第二表面320)上设置有凸粒d 404。凸粒d 404的数
量为多个。凸粒d 404之间沿预设方向s2间距地阵列设置。
[0157]
可选地，对应于第一区域位置321的按摩头被设置成能相对于第一区域位置321沿预设方向s2运动，或者能相对于第一区域位置321做周向运动或能相对于第一区域位置321转动。
[0158]
可以理解的是，本具体实施例2提供的按摩装置的其他特征，如框体200、驱动源20、凸粒400等，可以具体实施例1中的内容以不冲突的形式结合于本具体实施例2当中，在此不再重复。
[0159]
具体实施例3：
[0160]
如图7所示，相比上述具体实施例1，区别之处包括：
[0161]
按摩垫300的周圈设置有配合边340。框体200设置成环形，框体200能嵌套设置在按摩垫300的外侧，并压紧配合边340以实现对按摩垫300固定。
[0162]
如图6、图7和图8所示，相比上述具体实施例1，区别之处还包括：
[0163]
如图6和图7所示，按摩垫300从前端至后端的方向上，依次限定有第一区域位置321、第三区域位置323和第二区域位置322。
[0164]
第一区域位置321具体用于对应足部的前脚掌区域。
[0165]
第三区域位置323具体用于对应足弓区域。
[0166]
第二区域位置322具体用于对应足部的脚后跟区域。
[0167]
第一区域位置321设置第二隆起部位332，第三区域位置323设置第一隆起部位331、第二区域位置322设置第一平垫部位334，使得第二隆起部位332、第一隆起部位331、第一平垫部位334相应沿按摩垫300由前向后的方向依次地排列设置。
[0168]
第二隆起部位332的凸面上设置凸粒a 401，第一隆起部位331的凸面上设置凸粒c 403，第一平垫部位334的第二表面320上设置凸粒b 402。
[0169]
如图8所示，凸粒a 401、凸粒b 402、凸粒c 403中至少一者设置成锥形。
[0170]
凸粒a 401、凸粒b 402、凸粒c 403中至少一者的凸起高度的取值范围为0.1mm～30mm。
[0171]
凸粒a 401的最高点位置比凸粒b 402的最高点位置高，且高度落差值h1的取值范围为0.1mm～50mm。
[0172]
凸粒c 403的最高点位置比凸粒b 402的最高点位置高，且高度落差值h2的取值范围为0.1mm～30mm。
[0173]
如图6和图8所示，凸粒a 401、凸粒b 402、凸粒c 403中至少一者被设置成沿预设方向s2阵列地分布。凸粒a 401的体积大于凸粒b 402的体积，且大于凸粒c 403的体积。凸粒c 403的体积大于凸粒b 402的体积。
[0174]
第二隆起部位332沿按摩垫300的宽度方向延伸设置，且从按摩垫300宽度方向的一端延伸至另一端。
[0175]
可选地，如图6所示，第二隆起部位332沿延伸方向宽度大致均匀。
[0176]
可选地，如图7所示，第二隆起部位332沿延伸方向隆起高度大致均匀。可以对前脚掌两侧大致均匀地支撑，提升对前脚掌的按摩效果。
[0177]
第一隆起部位331沿按摩垫300的宽度方向延伸设置，且从按摩垫300宽度方向的一端延伸至另一端。
[0178]
可选地，如图6所示，第一隆起部位331沿延伸方向呈现出宽度先均匀设置、后逐渐变窄的变化趋势。这样，第一隆起部位331宽度大致均匀的区域可用于对应于足弓，以良好地契合适配足弓位置，第一隆起部位331宽度逐渐减小的区域，可以形成过渡收拢作用，更好地适应足弓外侧逐渐降低的足底形状，从而提升对足底的按摩效果。
[0179]
可选地，如图7所示，第一隆起部位331沿延伸方向呈现出隆起高度先均匀设置、后逐渐降低的变化趋势。这样，第一隆起部位331隆起高度大致均匀的区域可用于对应于足弓，以良好地契合适配足弓位置，第一隆起部位331的隆起高度逐渐降低的区域，可以形成过渡降低高度的作用，更好地适应足弓外侧逐渐降低的足底形状，从而提升对足底的按摩效果。
[0180]
第一平垫部位334设置成平面垫体。
[0181]
可以理解的是，本具体实施例3提供的按摩装置的其他特征，如框体200、驱动源20、凸粒400等结构的特征，可以以具体实施例1中的内容以不冲突的形式结合于本具体实施例3当中，在此不再重复。
[0182]
具体实施例4：
[0183]
如图9和图10所示，相比上述具体实施例3，区别之处包括：
[0184]
按摩装置包括用于与第二隆起部位332对应设置的按摩头e 150、用于与第一隆起部位331对应设置的按摩头d 140。
[0185]
按摩头e 150具有与按摩头d 140不同的运动方向和/或运动形式，这样，通过按摩头e 150与按摩头d 140之间运动形式或运动方向不同，可以交替地形成一松一弛、张弛有度的按摩形式，按摩模式更加丰富，按摩也更加舒适。
[0186]
且通过设置第二隆起部位332对应按摩头e 150、第一隆起部位331对应按摩头d 140，可以为按摩头e 150与按摩头d 140之间的相对运动提供更大的活动空间，同时减少按摩头e 150与按摩头d 140之间相对运动过程中按摩垫300受到的拉扯，进一步降低按摩垫300被拉扯损坏的风险性。
[0187]
更具体举例地，按摩头e 150具体包括摆动轮151以及设置于摆动轮151上的第三凸起152，第三凸起152伸入第二隆起部位332的凹面围成的空间内，摆动轮151配置在能在驱动源20的驱动下来回地摆动，从而使得第三凸起152沿凹面做来回地弧线运动。第二隆起部位332的凸面上设置凸粒a 401，凸粒a 401的数量为多个，凸粒a 401之间沿第三凸起152的弧线运动方向间距地设置，使得凸粒a 401被阵列地设置。当驱动源20驱动摆动轮151摆动，这样，第三凸起152所到之处的凸粒a 401被顶起，第三凸起152离开之处的凸粒a 401未被顶起，从而使得第三凸起152运动轨迹上的凸粒a 401随着第三凸起152的运动起伏，按摩效果好，且按摩模式更加丰富。
[0188]
按摩头d 140具体包括自转轮141以及设置在自转轮141上的凸包142，凸包142能伸入第一隆起部位331的凹面围成的空间中。自转轮141沿周向设置均匀间隔地设置多个凸包142，这样，当自转轮141在驱动源20的驱动下转动，伸入于凹面围成的空间内的凸包142能相对于凹面做弧线运动。第一隆起部位331的凸面上设置凸粒d 404，凸粒d 404的数量为多个，凸粒d 404之间沿凸包142的弧线运动方向间距地设置，使得凸粒d 404被阵列地设置。当驱动源20驱动自转轮141转动，这样，凸包142所到之处的凸粒d 404被顶起，凸包142离开之处的凸粒d 404未被顶起，从而使得凸包142运动轨迹上的凸粒d 404随着凸包142的
运动起伏，按摩效果好，且按摩模式更加丰富。
[0189]
如图10所示，相比上述具体实施例3，区别之处包括：
[0190]
框体200上设置侧壁212，按摩垫300的周边设置套接部350，套接部350嵌套设置在侧壁212的外侧，这样，框体200与按摩垫300之间连接在一起。可选地，框体200与按摩垫300之间可以进一步被粘接在一起。
[0191]
框体200的周边设置连接部213，且连接部213与足浴器盆体30之间设置有密封件216，连接部213穿过密封件216上的通孔后连接于足浴器盆体30上的安装孔内，使得密封件216被连接部213与足浴器盆体30压紧，实现密封件216密封框体200与足浴器盆体30之间的缝隙。
[0192]
可以理解的是，本具体实施例4提供的按摩装置的其他特征，如框体200、驱动源20、凸粒400等结构的特征，可以以具体实施例1或具体实施例3中的内容以不冲突的形式结合于本具体实施例4当中，在此不再重复。
[0193]
本具体实施例提供的按摩装置，按摩垫300可以格挡在足部与按摩结构100之间，从而可以降低足部被按摩结构100摩擦、磨损等风险性，且按摩垫300用于接触足部的一侧的表面上设置凸粒400，凸粒400能随着按摩头的运动起伏，从而强化了对足底穴位的刺激效果，可以避免因足部与按摩结构100之间有按摩垫300导致按摩刺激效果减弱等问题，更好地保障了按摩效果，同时，通过摆动设置的按摩头e 150及转动设置的按摩头d 140，可以提供更丰富的按摩模式，更好地提升按摩体验。
[0194]
虽然已参照几个典型实施方式描述了本技术，但应当理解，所用的术语是说明和示例性、而非限制性的术语。由于本技术能够以多种形式具体实施而不脱离实用新型的精神或实质，所以应当理解，上述实施方式不限于任何前述的细节，而应在随附权利要求所限定的精神和范围内广泛地解释，因此落入权利要求或其等效范围内的全部变化和改型都应为随附权利要求所涵盖。
技术特征：1.一种按摩装置，其特征在于，包括：按摩结构；驱动源，与所述按摩结构传动连接，所述驱动源能驱动所述按摩结构；按摩垫，位于所述按摩结构的一侧，且具有面对所述按摩结构设置的第一表面和背对所述按摩结构设置的第二表面，所述按摩垫的所述第二表面上设有相对于所述第二表面凸起设置的凸粒。2.根据权利要求1所述的按摩装置，其特征在于，所述按摩结构限定有按摩区域；所述按摩结构包含位于所述按摩区域的一个或多个按摩头；所述按摩垫覆盖所述按摩区域，且所述按摩垫包含有一个或多个对应部位，所述对应部位与至少一个所述按摩头位置相对地设置或者与至少一个所述按摩头的活动范围位置相对地设置，所述对应部位的所述第二表面上设置有所述凸粒，所述对应部位上的所述凸粒为多个且间隔分布。3.根据权利要求2所述的按摩装置，其特征在于，其中的一个或多个所述对应部位被构造为隆起部位，所述隆起部位的所述第一表面包括凹面，所述隆起部位的所述第二表面包括凸面，所述凸面上设置有所述凸粒，其中，对应于所述隆起部位的所述按摩头在所述驱动源的驱动下能部分地伸入到所述凹面围成的空间内。4.根据权利要求3所述的按摩装置，其特征在于，所述隆起部位的数量为两个或两个以上，每个所述隆起部位的所述凸面上均设有所述凸粒，相邻的隆起部位之间的所述第二表面上无所述凸粒。5.根据权利要求3所述的按摩装置，其特征在于，其中的一个或多个所述对应部位被构造为平垫部位，所述平垫部位的所述第二表面上设置有所述凸粒。6.根据权利要求5所述的按摩装置，其特征在于，所述按摩垫沿长度方向限定有第一端和第二端，所述按摩垫的所述第一端与所述第二端之间的位置处依次限定有第一平垫部位、第一隆起部位和第二隆起部位，所述第一平垫部位、所述第一隆起部位和所述第二隆起部位各自的所述第二表面上分别设置有所述凸粒；或所述按摩垫包括第二平垫部位和第三隆起部位，所述第三隆起部位被限定在所述按摩垫能用于对应足弓的位置处，所述第三隆起部位的部分边缘与所述第二平垫部位连接，所述第三隆起部位和所述第二平垫部位各自的所述第二表面上分别设置有所述凸粒。7.根据权利要求2所述的按摩装置，其特征在于，所述按摩头在所述驱动源的驱动下相对于所述对应部位的运动具有预设方向，所述按摩头为多个，每个所述按摩头上的所述按摩垫的所述对应部位均设有多个所述凸粒，且所述对应部位上的所述凸粒沿着所述预设方向间距地排列设置。8.根据权利要求7所述的按摩装置，其特征在于，其中的一个或多个所述按摩头为第一按摩头，所述第一按摩头在所述驱动源的驱动下能相对于所述对应部位移动，对应于所述第一按摩头的所述对应部位的所述第二表面上设
置有阵列地排布的多个所述凸粒；和/或其中的一个或多个所述按摩头为第二按摩头，所述第二按摩头在所述驱动源的驱动下能相对于所述对应部位旋转或圆周运动，对应于所述第二按摩头的所述对应部位的所述第二表面上设置有圆周排列地多个所述凸粒。9.根据权利要求1至8中任一项所述的按摩装置，其特征在于，所述按摩垫的所述第二表面限定有沿长度方向排列设置的第一区域位置和第二区域位置，所述第一区域位置相比所述第二区域位置更靠近于所述按摩垫的前端，所述第一区域位置和所述第二区域位置分别设置有所述凸粒；其中，所述第一区域位置处的所述凸粒的体积大于所述第二区域位置处的所述凸粒的体积，和/或所述第一区域位置处的所述凸粒的最高点位置高于所述第二区域位置处的所述凸粒的最高点位置。10.根据权利要求9所述的按摩装置，其特征在于，所述按摩垫的所述第二表面还限定有第三区域位置，所述第三区域位置沿所述按摩垫的长度方向位于所述第一区域位置与所述第二区域位置之间，所述第三区域位置设置有所述凸粒；其中，所述第一区域位置处的所述凸粒的体积大于所述第三区域位置处的所述凸粒的体积，和/或所述第三区域位置处的所述凸粒的最高点位置高于所述第二区域位置处的所述凸粒的最高点位置；其中，所述第一区域位置能用于对应前脚掌，所述第二区域位置能用于对应足跟，所述第三区域位置能用于对应足弓。11.根据权利要求1至8中任一项所述的按摩装置，其特征在于，所述凸粒被设置为沿凸起高度方向截面积变小的结构；和/或所述凸粒自所述第二表面的凸起高度的取值范围为0.1mm～30mm，所述凸粒远离所述第二表面的一端的面积的取值范围为大于0且小于等于5平方毫米。12.根据权利要求11所述的按摩装置，其特征在于，所述凸粒的形状为锥形，或所述凸粒包含锥形部及所述锥形部与所述第二表面之间的柱体部。13.根据权利要求1至8中任一项所述的按摩装置，其特征在于，还包括：耐磨层，设置于所述按摩垫与所述按摩结构之间；所述按摩垫为软胶垫。14.根据权利要求1至8中任一项所述的按摩装置，其特征在于，还包括：框体，所述框体配置为能装配所述按摩垫；所述框体上设置有使所述框体能被装配连接的连接部以及用于供所述连接部进行密封连接的密封件，所述框体形成有贯穿的避让通道，所述避让通道沿贯穿方向的一端形成第一开口，另一端形成第二开口，所述按摩垫与所述框体连接并遮挡所述第一开口，所述按摩结构沿所述第二开口伸入所述避让通道；或者所述按摩垫上设置有配合边，所述配合边能被所述框体压紧，使得所述按摩垫能被压紧固定。15.一种足浴器，其特征在于，包括：足浴器盆体，所述足浴器盆体内设有足浴腔体和电气安装腔；如权利要求1至14中任一项所述的按摩装置，所述按摩装置的按摩结构设置在所述电气安装腔内，所述按摩装置的按摩垫位于所述足浴腔体的底部且与所述足浴腔体的底部连
接以密封所述按摩装置，所述按摩垫的所述第一表面朝向所述电气安装腔，所述按摩垫的所述第二表面朝向所述足浴腔体。
技术总结本申请提供了一种按摩装置和足浴器，按摩装置包括：按摩结构；驱动源，与按摩结构传动连接，驱动源能驱动按摩结构；按摩垫，位于按摩结构的一侧，且具有面对按摩结构设置的第一表面和背对按摩结构设置的第二表面，按摩垫的第二表面上设有相对于第二表面凸起设置的凸粒。本方案的按摩装置，可以极大降低刮脚概率，同时可兼顾地保障按摩效果。可兼顾地保障按摩效果。可兼顾地保障按摩效果。
技术研发人员：黄宇君 叶旦 欧阳杰鹏
受保护的技术使用者：佛山市星曼信息科技有限公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2022/7/4
