本发明涉及电池制造系统。
背景技术：
1、有望成为下一代电池的全固态锂离子二次电池的开发正取得进展。因此，正在考虑用于制造新电池材料的系统。
2、例如，专利文献1公开了以下的反应器。所述反应器包括成为压力反应容器的螺旋加料器主体、将催化剂引入螺旋加料器主体的催化剂供应单元以及将低烃引入螺旋加料器主体的低烃供应单元。此外，反应器包括移送所生成的纳米碳的螺杆、将催化剂和由螺杆移送的纳米碳送出的固体发送单元以及将所生成的氢气送至加料器主体外部的的气体发送单元。
3、引用清单
4、专利文献
5、专利文献1：未经审查的日本专利申请公开jp 2006－290682。
技术实现思路
1、技术问题
2、硫化物基材料被视为用于全固态锂离子二次电池的有前途的固体电解质。在全固态锂离子二次电池的制造步骤中，在使用硫化物基固体电解质的情况下，固体电解质可与空气中的水分反应，并且可产生有害气体，诸如硫化氢。因此，在全固态锂离子二次电池的制造步骤中，例如，必须进行用于使空气中的含水量最小化的气氛控制。然而，对里面安装有电池制造设施的整栋建筑物进行气氛控制会增加气氛控制设施的规模，并提高成本。
3、本公开旨在解决这样的问题，并提供能够高效地进行气氛控制的电池制造系统。
4、问题的解决方案
5、根据本公开的电池制造系统通过对预定的原材料依次实施多个不同的处理步骤来制造电池，并且包括多个处理块和连接块。每个处理块包括与外界空气隔断的处理空间、将预定的材料接收到处理空间中的接收口以及将通过对从接收口接收的材料进行预定处理而生产的产品送出的发送口。连接块至少包括中间单元，该中间单元将从包括在上游侧的处理块中的发送口到包括在下游侧的处理块中的接收口的空间与外界空气隔断，并且中间单元具有柔性，以跟随发送口和接收口的相对位置的变化。
6、本发明的有益效果
7、根据本公开，可提供能够高效执行气氛控制的电池制造系统。
1.电池制造系统，其通过对预定的材料依次实施多个不同的处理步骤来制造电池，所述电池制造系统包括：
2.根据权利要求1所述的电池制造系统，其中，每个处理块构造成通过连续地对从所述接收口接收的材料进行预定处理而从发送口连续地送出产品。
3.根据权利要求1或2所述的电池制造系统，其中，所述连接块包括面向每个处理块的环形凸缘部分和从所述凸缘部分立起的管状中间单元。
4.根据权利要求3所述的电池制造系统，其中，所述中间单元由包含腈树脂、硅树脂或氟树脂中的至少一种的材料形成。
5.根据权利要求3所述的电池制造系统，其中，所述中间单元由按重量百分比计含有10％到30％铬但不含钼的金属形成。
6.根据权利要求3至5中任一项所述的电池制造系统，其中，所述中间单元包括在延伸方向上形成为波纹管形状的部分。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的电池制造系统，其中，每个处理块和所述连接块以在连接部处夹入具有弹性的密封构件的方式彼此靠近而连接。
8.根据权利要求7所述的电池制造系统，其中，每个处理块和所述连接块通过在环形密封构件的外周侧的紧固构件紧固在一起。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的电池制造系统，其中，所述电池制造系统还包括对象供给块，所述对象供给块包括：
10.根据权利要求9所述的电池制造系统，其中，所述对象接收单元构造成能够接收容纳所述对象的容器，并且所述对象供给块还包括打开机构，该打开机构构造成在所述供给调节单元中打开容器。
11.根据权利要求10所述的电池制造系统，其中，所述对象供给块包括闭门传感器，所述闭门传感器构造成能够检测所述对象接收门处于闭门状态，并且所述打开机构构造成当所述闭门传感器检测到闭门状态时打开所述容器。
12.根据权利要求11所述的电池制造系统，其中，所述供给单元构造成当所述闭门传感器检测到闭门状态时打开所述供给门。
13.根据权利要求10至12中任一项所述的电池制造系统，其中，所述对象供给块还包括容器存储部，所述容器存储部构造成用于分离在所述对象已被供给到所述处理块之后的所述容器。
14.根据权利要求10至13中任一项所述的电池制造系统，其中，所述对象供给块包括一个或多个排气口和进气口，其构造成调节所述供给调节单元中的气氛。
15.根据权利要求9至14中任一项所述的电池制造系统，其中，所述对象供给块和所述处理块以在这些块彼此连接的连接部处夹入具有弹性的密封构件的方式彼此靠近而连接。
16.根据权利要求1至14中任一项所述的电池制造系统，其中，所述电池制造系统还包括产品发送模块，所述产品发送模块包括：
17.根据权利要求16所述的电池制造系统，其中，所述产品发送模块包括一个或多个排气口和进气口，其构造成调节所述发送调节单元中的气氛。
18.根据权利要求16或17所述的电池制造系统，其中，所述产品发送块和所述处理块以在这些块彼此连接的连接部处夹入具有弹性的密封构件的方式彼此靠近而连接。
19.根据权利要求1至18中任一项所述的电池制造系统，其中，所述多个处理块包括：
