本申请涉及低辐射玻璃，尤其涉及一种低辐射玻璃。
背景技术：
1、低辐射玻璃，是在玻璃基片的表面镀上具有低辐射特性的多层金属或其他化合物组成的镀膜层而形成的玻璃。其镀膜层可有效的控制可见光和红外线的反射率，从而控制进入室内的光线的数量和波长，以控制低辐射玻璃的热反射能力，从而达到热量控制、制冷成本控制和室内亮度的平衡。同时，也可以通过控制低辐射玻璃对不同波长的反射率，使得低辐射玻璃反射出不同波长的光，以使得低辐射玻璃呈现不同的颜色。
2、目前，公建项目建筑低辐射玻璃中，镀膜层对绿色、蓝色等波长较小的光线的反射率较大，从而使得低辐射玻璃呈现的颜色偏向于冷色调，导致低辐射玻璃的呈现效果较为单调。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种低辐射玻璃，能够使得镀膜层对波长较大的光线的反射率较大，使得低辐射玻璃呈现的颜色偏向于暖色调。
2、为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案是：一种低辐射玻璃，包括玻璃基片和镀膜层。
3、所述镀膜层镀设于所述玻璃基片一个表面上，所述镀膜层自所述玻璃基片的一侧由里向外依次包括第一电介质层、第一功能层、第一金属保护层、第二电介质层、第二功能层、第二金属保护层以及第三电介质层；其中，所述第一电介质层和所述第三电介质层均为氮化硅层，所述第一功能层和所述第二功能层均为银层，所述第一金属保护层和所述第二金属保护层均为镍铬层，所述第二电介质层为氧化锌层。
4、本申请提供的低辐射玻璃的有益效果在于：由于第一功能层和第二功能层之间的第二电介质层为氧化锌层，且由于氧化锌具有致密度较高及电导率较高的优点，所以第二电介质层的厚度可以大幅度减薄，使得氧化锌层呈纳米级别，纳米级别的氧化锌层可吸收了部分或者全部的蓝色光，以改变第二电介质层的光学干涉效果，从而使得镀膜层在白光的环境中呈现偏向于黄色的暖色调。且整体镀膜层的反射率的波谷(拐点)由常规的580nm-620nm位置调整到430nm-450nm处，如此，本申请实施例的低辐射玻璃的反射率与光波波长在反射率的波谷之后趋于正比关系，即随着光波波长的增加，低辐射玻璃的反射率增加，所以本申请实施例的低辐射玻璃可反射较多的波长较大的光线，使得低辐射玻璃呈现暖色调，从而可以丰富低辐射玻璃可选择的颜色。
5、在一些实施例中，所述第一电介质层的厚度为20nm-30nm。
6、在一些实施例中，所述第一功能层的厚度为8nm-10nm。
7、在一些实施例中，所述第一金属保护层的厚度为4nm-6nm。
8、在一些实施例中，所述第二电介质层的厚度为45nm-55nm。
9、在一些实施例中，所述第二功能层的厚度为6nm-8nm。
10、在一些实施例中，所述第二金属保护层的厚度为2nm-4nm。
11、在一些实施例中，所述第三电介质层的厚度为35nm-45nm。
12、在一些实施例中，所述镀膜层还包括第四电介质层，所述第四电介质层位于所述第三电介质层背离所述第二金属保护层的表面上，且所述第四电介质层为氮化锆层。
13、在一些实施例中，所述第四电介质层的厚度为5nm-8nm。
1.一种低辐射玻璃，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一电介质层的厚度为20nm-30nm。
3.根据权利要求2所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一功能层的厚度为8nm-10nm。
4.根据权利要求3所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第一金属保护层的厚度为4nm-6nm。
5.根据权利要求4所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第二电介质层的厚度为45nm-55nm。
6.根据权利要求5所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第二功能层的厚度为6nm-8nm。
7.根据权利要求6所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第二金属保护层的厚度为2nm-4nm。
8.根据权利要求7所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第三电介质层的厚度为35nm-45nm。
9.根据权利要求1至7中任意一项所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述镀膜层还包括第四电介质层，所述第四电介质层位于所述第三电介质层背离所述第二金属保护层的表面上，且所述第四电介质层为氮化锆层。
10.根据权利要求9所述的低辐射玻璃，其特征在于，所述第四电介质层的厚度为5nm-8nm。
