本技术涉及半导体材清洗设备，具体是指一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置。
背景技术：
1、在传统半导体材料的清洗工艺中，被清洗的半导体材料在清洗完成后，有工艺需要在极短的时间内把清洗槽内部的药液排空，如无法在规定的时间内排空，致使被清洗的半导体材料部分浸泡在清洗药液内，另一部分露出液面，会使半导体材料被腐蚀的不均匀，故需要一种可快速排放液体的装置；因在某些工艺中使用的药液温度高、有腐蚀，故无法排放至该槽体的外隔槽中以防止隔槽内的器件被腐蚀、损坏，需要通过管道排放至一缓冲槽内对药液进行处理后才可排放；如通过管道排放，就需要管道内径足够大，才可以使清洗槽内部的液体快速排净，但市面上大直径的阀体价格昂贵，且体积极大，无法满足使用要求。故需要一种可快速排空药液且体积小、耐腐蚀、可安装在管道内部的管道式快排装置。
技术实现思路
1、本实用新型要解决的技术问题是克服以上的技术缺陷，提供一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置。该装置安装在排液管道中，结构简单、体积小，使用耐腐蚀材料制造，通过管道式快排装置的打开对槽内药液进行排放，可在规定的极短时间内把清洗槽内部的液体通过管道进行排放。
2、为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案为：一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，包括设置在清洗槽底部的槽底支座法兰管，所述槽底支座法兰管的下部连接有内锥形外管支座，所述内锥形外管支座的下部连接有气缸安装座，所述气缸安装座上设有耐腐蚀双作用气缸，所述耐腐蚀双作用气缸活塞杆的上端设有用于封堵内锥形外管支座上端口的封堵件，所述气缸安装座的下端通过排水支座法兰连接有排水管。
3、进一步地，所述槽底支座法兰管焊接在清洗槽底部，所述槽底支座法兰管与内锥形外管支座之间还设有密封圈一且槽底支座法兰管与内锥形外管支座之间通过紧固螺钉固定。
4、进一步地，所述内锥形外管支座为桶形结构，所述内锥形外管支座的上端加工有第一密封圈槽且所述密封圈一设置在第一密封圈槽内，所述内锥形外管支座上端口为密封锥面，所述封堵件包括与密封锥面相适配的锥形伸缩板，所述锥形伸缩板上还设有耐腐蚀密封圈。
5、进一步地，所述耐腐蚀双作用气缸的气缸缸筒通过气路接头安装孔安装有气缸接头，所述内锥形外管支座侧面还加工有过壁螺纹孔，所述过壁螺纹孔上螺纹连接有过壁穿管接头，所述过壁穿管接头内穿设有耐腐蚀气管且耐腐蚀气管的内端与气缸接头连接。
6、进一步地，所述气缸安装座与内锥形外管支座通过密封圈二密封且气缸安装座与内锥形外管支座之间通过紧固螺钉固定。
7、进一步地，所述气缸安装座上面加工有第二密封圈槽且密封圈二设置在第二密封圈槽内，所述气缸安装座的中部加工有漏液槽孔，所述气缸安装座上还设有位于漏液槽孔上方的气缸支撑梁，所述气缸支撑梁上设有螺栓安装孔，所述耐腐蚀双作用气缸的气缸缸筒支撑在气缸支撑梁上，并通过紧固螺钉穿过螺栓安装孔的方式对气缸缸筒进行固定。
8、进一步地，所述气缸安装座与排水支座法兰之间通过紧固螺钉固定且气缸安装座与排水支座法兰之间通过密封圈三进行密封。
9、本实用新型与现有技术相比的优点在于：该装置通过耐腐蚀双作用气缸控制锥形伸缩板，实现清洗液体的快速排放。其独特设计包括内锥形外管支座、密封锥面、耐腐蚀密封圈等结构，确保液体在排放过程中不会渗漏，保证了清洗液体的快速排空。与传统方法相比，该装置无需大直径的阀体，减少了成本，且体积小巧，能够适应各种工艺要求。此外，装置的工作原理简单，操作方便，能够高效地完成清洗药液的回收排放任务，提高了清洗工艺的效率和稳定性，避免了半导体材料被腐蚀的不均匀现象。
1.一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，包括设置在清洗槽(12)底部的槽底支座法兰管(1)，所述槽底支座法兰管(1)的下部连接有内锥形外管支座(2)，所述内锥形外管支座(2)的下部连接有气缸安装座(4)，所述气缸安装座(4)上设有耐腐蚀双作用气缸(3)，所述耐腐蚀双作用气缸(3)活塞杆的上端设有用于封堵内锥形外管支座(2)上端口的封堵件，所述气缸安装座(4)的下端通过排水支座法兰(5)连接有排水管(11)。
2.根据权利要求1所述的一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，所述槽底支座法兰管(1)焊接在清洗槽(12)底部，所述槽底支座法兰管(1)与内锥形外管支座(2)之间还设有密封圈一(6)且槽底支座法兰管(1)与内锥形外管支座(2)之间通过紧固螺钉(13)固定。
3.根据权利要求2所述的一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，所述内锥形外管支座(2)为桶形结构，所述内锥形外管支座(2)的上端加工有第一密封圈槽(2-1)且所述密封圈一(6)设置在第一密封圈槽(2-1)内，所述内锥形外管支座(2)上端口为密封锥面(2-2)，所述封堵件包括与密封锥面(2-2)相适配的锥形伸缩板(3-2)，所述锥形伸缩板(3-2)上还设有耐腐蚀密封圈(3-3)。
4.根据权利要求3所述的一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，所述耐腐蚀双作用气缸(3)的气缸缸筒(3-1)通过气路接头安装孔(3-4)安装有气缸接头(7)，所述内锥形外管支座(2)侧面还加工有过壁螺纹孔(2-3)，所述过壁螺纹孔(2-3)上螺纹连接有过壁穿管接头(9)，所述过壁穿管接头(9)内穿设有耐腐蚀气管(8)且耐腐蚀气管(8)的内端与气缸接头(7)连接。
5.根据权利要求1所述的一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，所述气缸安装座(4)与内锥形外管支座(2)通过密封圈二(10)密封且气缸安装座(4)与内锥形外管支座(2)之间通过紧固螺钉(13)固定。
6.根据权利要求5所述的一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，所述气缸安装座(4)上面加工有第二密封圈槽(4-1)且密封圈二(10)设置在第二密封圈槽(4-1)内，所述气缸安装座(4)的中部加工有漏液槽孔(4-4)，所述气缸安装座(4)上还设有位于漏液槽孔(4-4)上方的气缸支撑梁(4-2)，所述气缸支撑梁(4-2)上设有螺栓安装孔(4-3)，所述耐腐蚀双作用气缸(3)的气缸缸筒(3-1)支撑在气缸支撑梁(4-2)上，并通过紧固螺钉(13)穿过螺栓安装孔(4-3)的方式对气缸缸筒(3-1)进行固定。
7.根据权利要求1所述的一种硅晶圆片清洗槽管道式快速排液装置，其特征在于，所述气缸安装座(4)与排水支座法兰(5)之间通过紧固螺钉(13)固定且气缸安装座(4)与排水支座法兰(5)之间通过密封圈三(14)进行密封。
