等离子体监控装置的制作方法

allin2026-02-16  18


本发明涉及一种等离子体监控装置,且特别是涉及一种可节省成本且可降低系统复杂度的等离子体监控装置。


背景技术:

1、目前,标准的等离子体监控装置至少包括:1个靶座、对应于靶座数量的1组光学准直镜组、与光学准直镜组同数量的1组流量控制器组(mass flow controller,mfc)以及与光学准直镜组同数量的1组供气管组。其中,每一组的光学准直镜组、流量控制器组以及供气管组中还会有视靶座长度而定的2~4个光学准直镜、2~4个流量控制器以及2~4个供气管。

2、然而,目前的量产型的溅镀设备常为使用4个靶座来增加生产速度的批次式(batch),因此,用于量产型的溅镀设备的等离子体监控装置至少会需要有对应于靶座数量的4组光学准直镜组(8~16个光学准直镜)、与光学准直镜组同数量的4组流量控制器组(8~16个流量控制器)以及与光学准直镜组同数量的4组供气管组(8~16个供气管)。如此一来,将会导致使用者无法承担其等离子体监控装置所需花费的庞大成本。


技术实现思路

1、本发明是针对一种等离子体监控装置,具有可节省成本且可降低系统复杂度的效果。

2、根据本发明的实施例,等离子体监控装置包括至少一第一靶座、至少一第二靶座、第一准直镜组、第一流量控制器组以及等离子体放射监控器。第一靶座具有第一靶材且提供第一等离子体。第二靶座具有第二靶材且提供第二等离子体。第一准直镜组对应于第一靶座设置,以侦测第一等离子体的第一等离子体光谱。第一流量控制器组分别通过第一供气管组与第二供气管组提供气体给第一靶座与第二靶座。等离子体放射监控器根据第一等离子体的第一等离子体光谱调整流量控制器组所提供的气体的流量。第一靶材与第二靶材相同。准直镜组的总组数小于靶座的总数量。

3、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的准直镜组的总组数等于1,且靶座的总数量大于或等于2。

4、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的流量控制器组的总组数小于靶座的总数量。

5、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的流量控制器组的总组数等于1,且靶座的总数量大于或等于2。

6、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的第一靶座的第一等离子体的第一光强度实质上相同于第二靶座的第二等离子体的第二光强度。

7、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的第一靶座的第一等离子体的第一光强度与第二靶座的第二等离子体的第二光强度的差异在10%内。

8、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的等离子体监控装置还包括至少一第三靶座、第二准直镜组以及第二流量控制器组。至第三靶座具有第三靶材且提供第三等离子体。第二准直镜组对应于第三靶座设置,以侦测第三靶座的第三等离子体的第三光强度。第二流量控制器组通过第三供气管组提供另一气体给第三靶座。第一靶材与第三靶材不同。准直镜组的总组数小于靶座的总数量。

9、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的准直镜组的总组数等于2,且靶座的总数量大于或等于3。

10、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的流量控制器组的总组数小于靶座的总数量。

11、在根据本发明的实施例的等离子体监控装置中,上述的流量控制器组的总组数等于2,且靶座的总数量大于或等于3。

12、基于上述,在本发明一实施例的等离子体监控装置中,由于在减少准直镜组或流量控制器组的总组数的情况下,第一靶座的第一等离子体的第一光强度仍可实质上相同于第二靶座的第二等离子体的第二光强度,因而使得本发明一实施例的等离子体监控装置可以用来取代一般标准的等离子体监控装置,以达到节省成本或降低系统复杂度的效果。

13、让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合所附图式作详细说明如下。



技术特征:

1.一种等离子体监控装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的等离子体监控装置,其特征在于,所述准直镜组的总组数等于1,且所述靶座的总数量大于或等于2。

3.根据权利要求1所述的等离子体监控装置,其特征在于,流量控制器组的总组数小于所述靶座的总数量。

4.根据权利要求3所述的等离子体监控装置,其特征在于,所述流量控制器组的总组数等于1,且所述靶座的总数量大于或等于2。

5.根据权利要求1所述的等离子体监控装置,其特征在于,所述第一靶座的所述第一等离子体的第一光强度实质上相同于所述第二靶座的所述第二等离子体的第二光强度。

6.根据权利要求1所述的等离子体监控装置,其特征在于,所述第一靶座的所述第一等离子体的第一光强度与所述第二靶座的所述第二等离子体的第二光强度的差异在10%内。

7.根据权利要求1所述的等离子体监控装置,其特征在于,还包括:

8.根据权利要求7所述的等离子体监控装置,其特征在于,所述准直镜组的总组数等于2,且所述靶座的总数量大于或等于3。

9.根据权利要求7所述的等离子体监控装置,其特征在于,流量控制器组的总组数小于所述靶座的总数量。

10.根据权利要求9所述的等离子体监控装置,其特征在于,所述流量控制器组的总组数等于2,且所述靶座的总数量大于或等于3。


技术总结
本发明提供一种等离子体监控装置。等离子体监控装置,包括至少一第一靶座、至少一第二靶座、第一准直镜组、第一流量控制器组以及等离子体放射监控器。第一靶座具有第一靶材且提供第一等离子体。第二靶座具有第二靶材且提供第二等离子体。第一准直镜组对应于第一靶座设置,以侦测第一等离子体的第一等离子体光谱。第一流量控制器组分别通过第一供气管组与第二供气管组提供气体给第一靶座与第二靶座。等离子体放射监控器根据第一等离子体的第一等离子体光谱调整流量控制器组所提供的气体的流量。第一靶材与第二靶材相同。准直镜组的总组数小于靶座的总数量。

技术研发人员:詹子厚,林清彦,何主亮,谢秉谚,陈瑛鸿
受保护的技术使用者:大永真空设备股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/10/31
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