本公开涉及光电转换元件及摄像元件。
背景技术：
1、已知具有光电转换膜的光电转换元件。在专利文献1及专利文献2中，记载了对光电转换膜进行干法蚀刻。
2、在先技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2006-32714号公报
5、专利文献2：国际公布第2019/239851号
技术实现思路
1、本公开提供适于实现具有高可靠性的光电转换元件的技术。
2、本公开提供一种光电转换元件，具备：
3、支承面；以及
4、光电转换膜，被配置于所述支承面，
5、在与垂直于所述支承面的垂直方向平行的第1截面中，
6、所述光电转换膜具有第1坡面，
7、在将所述第1坡面相对于与所述支承面平行的第1平行方向的倾斜角度定义为第1坡度角度时，
8、所述第1坡度角度大于0°且为5°以下。
9、本公开所涉及的技术适于实现具有高可靠性的光电转换元件。
1.一种光电转换元件，具备：
2.如权利要求1所述的光电转换元件，
3.如权利要求1或者2所述的光电转换元件，
4.如权利要求3所述的光电转换元件，
5.如权利要求3所述的光电转换元件，
6.如权利要求3所述的光电转换元件，
7.如权利要求3至6中任一项所述的光电转换元件，
8.如权利要求1至7中任一项所述的光电转换元件，
9.如权利要求1至8中任一项所述的光电转换元件，
10.如权利要求1至9中任一项所述的光电转换元件，
11.如权利要求1至10中任一项所述的光电转换元件，
12.如权利要求1至11中任一项所述的光电转换元件，
13.如权利要求1至12中任一项所述的光电转换元件，
14.如权利要求1至13中任一项所述的光电转换元件，
15.如权利要求1至14中任一项所述的光电转换元件，
16.如权利要求15所述的光电转换元件，
17.一种摄像元件，具备：
