本发明涉及一种药液。
背景技术：
1、在通过包括光光刻的配线形成工序来制造半导体器件时，使用水和/或包含有机溶剂的药液作为预湿液、抗蚀剂液(抗蚀剂组合物)、显影液、冲洗液、剥离液、化学机械研磨(cmp：chemical mechanical polishing)浆料及cmp后的清洗液等或作为它们的稀释液。
2、近年来，由于光刻技术的进步，图案的微细化不断发展。作为图案的微细化的方法，使用将曝光光源短波长化的方法，尝试了作为曝光光源代替一直以来使用的紫外线、krf准分子激光及arf准分子激光等而使用了更短波长的euv(极紫外线)等的图案形成。
3、上述euv等进行的图案形成系作为抗蚀剂图案的宽度以10～15nm为目标进行了开发，对该工艺中使用的上述药液要求进一步的缺陷抑制性能。
4、在药液中，有时作为杂质包含有含金属元素的金属杂质，作为从药液中去除金属杂质的方法，可举出过滤。
5、在专利文献1中公开了一种使用具有连通孔的聚酰亚胺和/或聚酰胺酰亚胺多孔质膜来精制液体(药液)的方法。还公开了根据上述方法能够从药液中去除铁(fe)及锌(zn)。
6、以往技术文献
7、专利文献
8、专利文献1：日本特开2016-155121号公报
技术实现思路
1、发明要解决的技术课题
2、本发明人等参考专利文献1记载的方法来制造药液，在将其用于使被接触物与所制造的药液接触的工序中时，结果发现被接触物容易产生缺陷，未达到近来所要求的水平。
3、另外，在将药液用于显影液、冲洗液、抗蚀剂清洗液及配管清洗液等各种用途时，期望不会产生在各个用途中发生的问题。例如，在将药液用作显影液或冲洗液的情况下，期望抑制所形成的抗蚀剂图案的图案崩塌。另外，在将药液用作预湿液的情况下，期望抑制在经预湿的基板上发生抗蚀剂的涂布不均。另外，在将药液用作抗蚀剂清洗液的情况下，期望抑制抗蚀剂残渣产生。另外，在用作配管清洗液的情况下，期望抑制在通过清洗后的配管供给组合物的基板的表面产生粒子缺陷。
4、因此，本发明的课题在于提供一种药液，在其用于使被接触物与药液接触的工序中的情况下，被接触物不易产生缺陷，并且可用作显影液、冲洗液、预湿液、抗蚀剂清洗液及配管清洗液中的至少一者，在用作显影液或冲洗液的情况下，抑制图案崩塌，在用作预湿液的情况下，抑制抗蚀剂的涂布不均，在用作抗蚀剂清洗液的情况下，抑制抗蚀剂残渣产生，在用作配管清洗液的情况下，抑制在通过清洗后的配管供给组合物的基板的表面产生粒子缺陷。
5、用于解决技术课题的手段
6、本发明人为了解决上述课题而进行了认真研究，结果终于完成了本发明。即，发现可通过以下结构来解决上述课题。
7、〔1〕一种药液，其含有：
8、有机溶剂；以及
9、含金属粒子，其包含选自由fe、ni及zn所组成的组中的金属元素，
10、所述药液通过方法x得到的i值为0.010～10.000。
11、方法x：在基板上涂布上述药液而制作被检体，利用激光烧蚀-电感耦合等离子体-质谱分析法对上述被检体的表面扫描激光进行分析，对每个上述金属元素获取横轴为激光的扫描时间及纵轴为离子检测强度的图，将上述图的上述离子检测强度按照上述扫描时间进行累计，得到每个上述金属元素的累计离子检测强度，将对每个上述金属元素的上述累计离子检测强度进行合计并设为合计累计离子检测强度，将上述合计累计离子检测强度除以激光的扫描面积，得到单位为计数/mm2(count/mm2)的i值。
12、〔2〕根据〔1〕所述的药液，其中，
13、上述药液为选自由显影液、冲洗液、预湿液、抗蚀剂清洗液及配管清洗液所组成的组中的一种。
14、〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的药液，其中，
15、上述有机溶剂包含乙酸丁酯、4-甲基-2-戊醇、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯或异丙醇。
16、〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的药液，其中，
17、上述药液为显影液，
18、上述有机溶剂选自由乙酸丁酯及4-甲基-2-戊醇所组成的组中，或者
19、上述有机溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯与液状有机酸的混合物。
20、〔5〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的药液，其中，
21、上述药液为冲洗液，
22、上述有机溶剂选自由乙酸丁酯、4-甲基-2-戊醇及异丙醇所组成的组中。
23、〔6〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的药液，其中，
24、上述药液为预湿液，
25、上述有机溶剂选自由环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯及异丙醇所组成的组中。
26、〔7〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的药液，其中，
27、上述药液为抗蚀剂清洗液，
28、上述有机溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯。
29、〔8〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的药液，其中，
30、上述药液为配管清洗液，
31、上述有机溶剂选自由乙酸丁酯、4-甲基-2-戊醇、环己酮、异丙醇及丙二醇单甲醚乙酸酯所组成的组中。
32、发明效果
33、根据本发明，能够提供一种药液，在其用于使被接触物与药液接触的工序中的情况下，被接触物不易产生缺陷，并且可用作显影液、冲洗液、预湿液、抗蚀剂清洗液及配管清洗液中的至少一者，在用作显影液或冲洗液的情况下，抑制图案崩塌，在用作预湿液的情况下，抑制抗蚀剂的涂布不均，在用作抗蚀剂清洗液的情况下，抑制抗蚀剂残渣产生，在用作配管清洗液的情况下，抑制在通过清洗后的配管供给组合物的基板的表面产生粒子缺陷。
1.一种药液，其含有：
2.根据权利要求1所述的药液，其中，
3.根据权利要求1或2所述的药液，其中，
4.根据权利要求2所述的药液，其中，
5.根据权利要求2所述的药液，其中，
6.根据权利要求2所述的药液，其中，
7.根据权利要求2所述的药液，其中，
8.根据权利要求2所述的药液，其中，
