1.本实用新型涉及pcb加工领域，尤其涉及一种蚀刻液吸除装置。
背景技术：2.蚀刻又称为光化学蚀刻，是把材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，根据原理不同又可分为湿蚀刻和干蚀刻两种类型。其中湿蚀刻通常是指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触蚀刻液达到溶解腐蚀的作用，最终形成凹凸或者镂空成型的效果。
3.一般印刷电路板制造时多选用湿蚀刻，而湿蚀刻过程中若蚀刻液过多极易导致水膜效应妨碍蚀刻效率甚至影响电路板的质量。因此蚀刻时通常会使用蚀刻液吸除装置将电路板上过多的蚀刻液吸除以确保蚀刻质量。
4.但常规的蚀刻液吸除装置，因其吸嘴距电路板间隔较大而产生真空损失差异，从而导致蚀刻液吸除装置吸除不均匀最终影响电路板的质量。并且蚀刻液吸除装置还可能会将电路板从传输带上吸起而发生卡板问题。
技术实现要素：5.基于此，有必要针对现有技术中的不足，提供一种蚀刻液吸除装置。
6.一种蚀刻液吸除装置，包括存储箱、传动平台、挂载架、真空泵及若干吸除组件。所述存储箱设有多个独立密封的存储腔，每个所述存储腔均设有蚀刻液排入口及真空泵连接口。所述吸除组件包括气压调节阀、吸嘴、流速计及传输管。若干所述吸嘴均固定于挂载架上且呈一行紧密排列，若干所述吸嘴的上端均装设有流速计，若干所述流速计通过传输管与存储腔的蚀刻液排入口相连，多个所述存储腔的真空泵连接口均与真空泵相连，且若干所述气压调节阀均装设于存储腔的真空泵连接口上，所述真空泵及存储箱均固定于挂载架上方，所述挂载架装设于传动平台上。
7.进一步地，所述传动平台包括承载台、传送架、传送带及若干固定吸盘。所述传送架固定于承载台上，所述传送带呈镂空设计，且其套设于传送架上，若干所述固定吸盘均嵌合于传送架的上端面。
8.进一步地，所述挂载架包括固定架及活动升降臂。所述活动升降臂可竖直升降，所述挂载架上设有滑轨，所述活动升降臂的上端固定卡合于滑轨中，所述流速计固定装设于活动升降臂的下端。
9.进一步地，挂载架上的所述活动升降臂设有多个，多个所述活动升降臂均固定卡合于滑轨中。
10.进一步地，多个所述蚀刻液排入口上均装设有过滤部。
11.综上所述，本实用新型一种蚀刻液吸除装置的有益效果在于：通过设置多个吸除组件，且每个吸除组件上均装设流速计配合气压调节阀对吸力进行调节使吸除效果更均衡，显著提升了蚀刻质量；传动平台上设有固定吸盘对电路板进行吸附固定，有效避免了吸
除组件对电路板吸附导致的卡板问题；挂载架的活动升降臂设置多个且可自由升降并在滑轨内滑动，使吸除组件能够自由组合以匹配多种电路板的厚度和宽度，极大地扩展了蚀刻液吸除装置的实用范围；收集槽上设置过滤部对吸除的蚀刻液进行过滤回收，使被收集的蚀刻液能够更容易再利用于蚀刻，节省了一定的生产成本；本实用新型实用性强，具有较强的推广意义。
附图说明
12.图1为本实用新型一种蚀刻液吸除装置的结构示意图。
具体实施方式
13.为了使实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释实用新型，并不用于限定实用新型。
14.如图1所示，本实用新型提供一种蚀刻液吸除装置100，包括存储箱10、传动平台20、挂载架30、真空泵40及若干吸除组件50。所述存储箱10设有多个独立密封的存储腔(图未示)，每个所述存储腔均设有蚀刻液排入口11及真空泵连接口12。所述吸除组件50包括气压调节阀51、吸嘴52、流速计53及传输管54。若干所述吸嘴52均固定于挂载架30上且呈一行紧密排列，若干所述吸嘴52的上端均装设有流速计53，若干所述流速计53通过传输管54与存储腔的蚀刻液排入口11相连，多个所述存储腔的真空泵连接口12均与真空泵40相连，且若干所述气压调节阀51均装设于存储腔的真空泵连接口12上，所述真空泵40及存储箱10均固定于挂载架30上方，所述挂载架30装设于传动平台20上。当吸嘴52的吸力过大，流速计53检测到蚀刻液的流速过快时，气压调节阀51对气压进行调节降低吸力；反之吸嘴52的吸力过小时则提升吸力。流速计53配合气压调节阀51对吸嘴52的吸力进行调节令吸力的波动显著缩小，从而使蚀刻液吸除装置100的吸除效果更均匀。
15.所述传动平台20包括承载台21、传送架22、传送带23及若干固定吸盘24。所述传送架22固定于承载台21上，所述传送带23呈镂空设计，且其套设于传送架22上，若干所述固定吸盘24均嵌合于传送架22的上端面。固定吸盘24通过镂空的传送带23对电路板进行负压吸附，使电路板固定紧贴于传送带23上，避免吸嘴52将电路板吸附脱离传动平台20而造成卡板问题。
16.所述挂载架30包括固定架31及活动升降臂32。所述活动升降臂32可竖直升降，所述挂载架30上设有滑轨(图未示)，所述活动升降臂32的上端固定卡合于滑轨中，所述流速计53固定装设于活动升降臂32的下端。挂载架30上的所述活动升降臂32设有多个，多个所述活动升降臂32均固定卡合于滑轨中。多个活动升降臂32既可竖直升降，又可沿滑轨自由移动，进而带动任意数量的吸嘴52组合排列进行吸除工作，使蚀刻液吸除装置100能够适用于多种厚度或宽度的电路板。
17.多个所述蚀刻液排入口11上均装设有过滤部60。过滤部60可以对吸除排入存储箱10内的蚀刻液进行初步过滤提纯，使被吸除的蚀刻液更便于回收再利用。
18.本实用新型在工作时，首先将任意数量的活动升降臂32沿滑轨滑动组合并通过升降调整至适合的高度，然后启动真空泵40使吸嘴52开始吸除工作。接着启动传送带23传送
电路板，且同步将传送架22内的固定吸盘24启动。在电路板的一端被传送至吸嘴52下方直到电路板的另一端传送出吸嘴52下方的过程中，吸嘴52对电路板上过多的蚀刻液进行吸除，同时下方的固定吸盘24对电路板进行吸附使其固定紧贴于传送带23上。被吸嘴52吸除的蚀刻液通过流速计23、传输管54、过滤部60最后进入存储箱10的存储腔内。当流速计53检测到蚀刻液的流速过快时，则气压调节阀51开始降低气压减小吸力；而当流速计53检测到蚀刻液的流速过慢时，则气压调节阀51开始提升气压增大吸力。流速计53与气压调节阀51配合使吸嘴52的吸力始终保持在比较稳定的范围内。
19.综上所述，本实用新型一种蚀刻液吸除装置100的有益效果在于：通过设置多个吸除组件50，且每个吸除组件50上均装设流速计53配合气压调节阀51对吸力进行调节使吸除效果更均衡，显著提升了蚀刻质量；传动平台20上设有固定吸盘24对电路板进行吸附固定，有效避免了吸除组件50对电路板吸附导致的卡板问题；挂载架30的活动升降臂32设置多个且可自由升降并在滑轨内滑动，使吸除组件50能够自由组合以匹配多种电路板的厚度和宽度，极大地扩展了蚀刻液吸除装置100的实用范围；存储箱10上设置过滤部60对吸除的蚀刻液进行过滤回收，使被收集的蚀刻液能够更容易再利用于蚀刻，节省了一定的生产成本；本实用新型实用性强，具有较强的推广意义。
20.以上所述实施例仅表达了实用新型的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于实用新型的保护范围。因此，实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
技术特征：1.一种蚀刻液吸除装置，其特征在于：包括存储箱、传动平台、挂载架、真空泵及若干吸除组件；所述存储箱设有多个独立密封的存储腔，每个所述存储腔均设有蚀刻液排入口及真空泵连接口；所述吸除组件包括气压调节阀、吸嘴、流速计及传输管；若干所述吸嘴均固定于挂载架上且呈一行紧密排列，若干所述吸嘴的上端均装设有流速计，若干所述流速计通过传输管与存储腔的蚀刻液排入口相连，多个所述存储腔的真空泵连接口均与真空泵相连，且若干所述气压调节阀均装设于存储腔的真空泵连接口上，所述真空泵及存储箱均固定于挂载架上方，所述挂载架装设于传动平台上。2.如权利要求1所述的蚀刻液吸除装置，其特征在于：所述传动平台包括承载台、传送架、传送带及若干固定吸盘；所述传送架固定于承载台上，所述传送带呈镂空设计，且其套设于传送架上，若干所述固定吸盘均嵌合于传送架的上端面。3.如权利要求1所述的蚀刻液吸除装置，其特征在于：所述挂载架包括固定架及活动升降臂；所述活动升降臂可竖直升降，所述挂载架上设有滑轨，所述活动升降臂的上端固定卡合于滑轨中，所述流速计固定装设于活动升降臂的下端。4.如权利要求3所述的蚀刻液吸除装置，其特征在于：挂载架上的所述活动升降臂设有多个，多个所述活动升降臂均固定卡合于滑轨中。5.如权利要求1所述的蚀刻液吸除装置，其特征在于：多个所述蚀刻液排入口上均装设有过滤部。
技术总结一种蚀刻液吸除装置，包括存储箱、传动平台、挂载架、真空泵及若干吸除组件；所述存储箱设有多个独立密封的存储腔，每个所述存储腔均设有蚀刻液排入口及真空泵连接口；所述吸除组件包括气压调节阀、吸嘴、流速计及传输管；若干所述吸嘴均固定于挂载架上且呈一行紧密排列，若干所述吸嘴的上端均装设有流速计，若干所述流速计通过传输管与存储腔的蚀刻液排入口相连，多个所述存储腔的真空泵连接口均与真空泵相连，且若干所述气压调节阀均装设于存储腔的真空泵连接口上，所述真空泵及存储箱均固定于挂载架上方，所述挂载架装设于传动平台上。本实用新型通过设置流速计配合气压调节阀使吸除效果更均衡；本实用新型实用性强，具有较强的推广意义。的推广意义。的推广意义。
技术研发人员：李冬艳 郭达文 徐明飞 章中刘
受保护的技术使用者：江西红板科技股份有限公司
技术研发日：2021.12.09
技术公布日：2022/7/5
