1.本发明涉及陶瓷生产设备技术领域，尤其涉及一种瓷套电阴干综合加工设备。
背景技术：2.电阴干是以泥段为电阻体利用电流通过泥段产生的焦耳热干燥坯件。在电阴干过程中，陶瓷胚体两端连接电极网，会出现局部过热、毛坯水分的减少而开裂，由于两端的水分蒸发较快，造成两端过硬的现象，严重地影响着毛坯的合格率和后道工序的台格率。瓷套生产过程中，修胚工序一般在电阴干之后和上釉之前，电阴干后的修胚是在坯体水分较少的情况下进行的，因而粉尘较大，而且对修坯刀的阻力较大，容易跳刀，修坯刀的磨损也较大。
技术实现要素：3.本发明的目的是为了改善现有技术中电阴干水分蒸发过快导致的毛坯开裂以及后续修胚胚体水分过干的矛盾，而提出的一种瓷套电阴干综合加工设备。
4.为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
5.一种瓷套电阴干综合加工设备，包括箱体，所述箱体的内部设置上电极盖、下电极盖、内刮片和外刮板。其中，所述上电极盖用于与陶瓷胚体的上端接触，下电极盖用于与陶瓷胚体的下端接触，上电极盖和下电极盖通电，使得陶瓷胚体产生电流，用于陶瓷胚体进行电阴干。内刮片的刀刃形状与目标陶瓷胚体内孔相匹配，用于对陶瓷胚体内孔进行修胚。外刮板的刀刃形状与目标陶瓷胚体外壁相匹配，用于对陶瓷胚体外壁进行修胚。
6.上述上电极盖包括环形主板、延伸杆、同心环架、电极网环、中间接触板、外接触板、内接触板和接触组件，所述所述主板的下端通过延伸杆连接同心环架，所述同心环架包括多个同心的绝缘环体，所述绝缘环体之间设置同心的电极网环，电极网环被绝缘环体进行绝缘隔离。
7.进一步的，所述中间接触板、外接触板和内接触板分别通过对应的接触组件与主板的下表面连接，所述接触组件包括旋转电机、接触气缸和导电块，所述旋转电机固定连接主板的下表面，旋转电机的输出轴固定连接接触气缸，所述接触气缸的工作端连接导电块，所述导电块用于连接接触板。
8.其中，旋转电机可带动接触板旋转，中间接触板、外接触板和内接触板通过旋转，可分别接触不同数量的电极网环，调节中间接触板、外接触板和内接触板对应电阴干的半径范围。
9.接触气缸可调节接触板与电极网环之间的接触和分离。当接触气缸伸展，中间接触板、外接触板和内接触板与电极网环接触；当接触气缸收缩，中间接触板、外接触板和内接触板与电极网环分离。优选的，电极网环的上表面高于绝缘环体，便于电极网环与各个接触板的接触。
10.进一步的，所述中间接触板、外接触板和内接触板的排布满足以下两个要求：中间
接触板、外接触板和内接触板旋转过程中互不干涉；当中间接触板、外接触板和内接触板与电极网环接触，一个电极网环不同时与中间接触板、外接触板和内接触板任两个同时接触，避免接触板之间的直接连接。
11.进一步的，所述主板的上端设置接电杆，所述中间接触板、外接触板和内接触板均与接电杆电性连接。
12.本瓷套电阴干综合加工设备还包括所述中间接触板、外接触板和内接触板的连接电路，所述连接电路包括电源、开关、两个可调电阻r0、电阻r1、电阻r2和电阻r3，所述电阻r1、电阻r2和电阻r3与电源并连接，电阻r1、电阻r2和电阻r3的阻值相同，所述电阻r1的两端用于连接外接触板w1，所述电阻r2的两端用于连接内接触板w2，所述电阻r3的两端用于连接中间接触板w3。所述电阻r1和电阻r2对应的支路上分别串联一个可调电阻r0,可调电阻r0用于分压，保持电阻r1和电阻r2对应的电压小于电阻r3，使得电阻r3两端的电压较高。
13.由于中间接触板用于接触陶瓷胚体中部的电极网环，使得陶瓷胚体中部的电压大于内孔和外壁，在进行电阴干过程中，保持中部的干燥速度大于内孔和外壁，陶瓷胚体中部的水分从中溢出，保持内孔和外壁的湿润，避免陶瓷体外部干燥导致的开裂，同时为陶瓷胚体的内孔和外壁修胚提供水分，使得修胚更顺畅。
14.上述上电极盖连接箱体上部的下推气缸，所述下推气缸的下端设置连接盘，所述连接盘包括旋转连接的固定板和旋转板，固定板固定连接下推气缸的下端，旋转板连接上电极盖。所述旋转板内部设置与接电杆相匹配的接电套，所述接电套的下部用于与接电杆套接，所述接电套的上部与固定板内部的导电环滑动接触，导电环连接供电端。当陶瓷胚体旋转，上电极盖和旋转板跟随陶瓷胚体旋转，接电套的上部始终与导电环保持接触，实现上电极盖上电极网的持续供电。
15.进一步的，所述下电极盖的结构与上电极盖的结构相同。所述下电极盖连接箱体下部的转盘，所述转盘与箱体下部的底座旋转连接，所述转盘的内部设置接电环，所述接电环的上部设置用于与下电极盖对应的接电杆套接的插孔，所述接电环的下部从转盘延伸而出，底座内部设置用于与接电环接触的电刷，电刷连接供电端。当陶瓷胚体跟随转盘旋转，电刷始终保护与接电环的接触，保持下电极盖上电极网的持续供电。
16.进一步的，所述底盘于转盘的中部内孔处设置同轴的内杆，内杆包括位于上部的活动杆和位于下部的固定杆，活动杆与固定杆无旋转运动套接。所述所述活动杆的外部设置内刮片，所述内刮片与活动杆之间设置外推气缸，外推气缸用于调节内刮片的位置，方便瓷套套在内刮片的外部，提高内刮板的适用性。
17.进一步的，所述外刮板通过调节气缸连接箱体的侧壁，调节气缸的工作端设置连接片，连接片用于可拆卸连接外刮板，用于外刮板的更换，提高本瓷套电阴干综合加工设备的适用性。
18.本瓷套电阴干综合加工设备的箱体设置透气窗，透气窗用于透气和排出水分。
19.本发明的有益效果是：
20.1、本瓷套电阴干综合加工设备可实现在陶瓷胚体电阴干时进行修胚，其对瓷套胚体中部进行强干燥、对瓷套胚体的内孔和外壁进行弱干燥，使得陶瓷胚体中部的水分从中溢出，可保持内孔和外壁的湿润，避免陶瓷电阴干外壁的开裂，同时为陶瓷胚体内孔和外壁的修胚提供了水分，保持修胚的顺畅进行，改善修胚时的粉尘和跳刀。
21.2、本瓷套电阴干综合加工设备可对瓷套胚体中部强干燥以及瓷套胚体的内孔和外壁弱干燥的半径范围进行调整，提高电阴干对陶瓷胚体以及外部环境的适用性。
附图说明
22.图1为本瓷套电阴干综合加工设备的结构示意图；
23.图2为本瓷套电阴干综合加工设备上电极盖处的结构示意图；
24.图3为本瓷套电阴干综合加工设备陶瓷胚体顶部俯视的结构示意图；
25.图4为本瓷套电阴干综合加工设备接触板的分布示意图；
26.图5为本瓷套电阴干综合加工设备电极网的电路连接示意图；
27.图6为本瓷套电阴干综合加工设备陶瓷胚体中电流密度的示意图。
28.图中：1、箱体；2、上电极盖；3、下推气缸；4、连接盘；5、下电极盖；6、内杆；7、外推气缸；8、内刮片；9、转盘；10、底座；11、外刮板；12、连接片；13、调节气缸；14、透气窗；21、主板；22、延伸杆；23、同心环架；24、电极网环；25、中间接触板；26、外接触板；27、内接触板；28、接电杆；29、接触组件；41、固定板；42、旋转板；43、接电套；44、导电环；61、活动杆；62、固定杆；91、接电环；101、电刷；291、旋转电机；292、接触气缸；293、导电块。
具体实施方式
29.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
30.参照图1，瓷套电阴干综合加工设备，包括箱体1，所述箱体1的内部设置上电极盖2、下电极盖5、内刮片8和外刮板11。其中，所述上电极盖2用于与陶瓷胚体的上端接触，下电极盖5用于与陶瓷胚体的下端接触，上电极盖2和下电极盖5通电，使得陶瓷胚体产生电流，用于陶瓷胚体进行电阴干。内刮片8的刀刃形状与目标陶瓷胚体内孔相匹配，用于对陶瓷胚体内孔进行修胚。外刮板11的刀刃形状与目标陶瓷胚体外壁相匹配，用于对陶瓷胚体外壁进行修胚。
31.参考图2和图3，上述上电极盖2包括环形主板21、延伸杆22、同心环架23、电极网环24、中间接触板25、外接触板26、内接触板27和接触组件29，所述所述主板21的下端通过延伸杆22连接同心环架23，所述同心环架23包括多个同心的绝缘环体，所述绝缘环体之间设置同心的电极网环24，电极网环24被绝缘环体进行绝缘隔离。
32.进一步的，所述中间接触板25、外接触板26和内接触板27分别通过对应的接触组件29与主板21的下表面连接，所述接触组件29包括旋转电机291、接触气缸292和导电块293，所述旋转电机291固定连接主板21的下表面，旋转电机291的输出轴固定连接接触气缸292，所述接触气缸292的工作端连接导电块293，所述导电块293用于连接接触板。
33.其中，旋转电机291可带动接触板旋转，中间接触板25、外接触板26和内接触板27通过旋转，可分别接触不同数量的电极网环24，调节中间接触板25、外接触板26和内接触板27对应电阴干的半径范围。
34.接触气缸292可调节接触板与电极网环24之间的接触和分离。当接触气缸292伸展，中间接触板25、外接触板26和内接触板27与电极网环24接触；当接触气缸292收缩，中间接触板25、外接触板26和内接触板27与电极网环24分离。优选的，电极网环24的上表面高于
绝缘环体，便于电极网环24与各个接触板的接触。
35.进一步的，所述中间接触板25、外接触板26和内接触板27的排布满足以下两个要求：1中间接触板25、外接触板26和内接触板27旋转过程中互不干涉；2当中间接触板25、外接触板26和内接触板27与电极网环24接触，一个电极网环24不同时与中间接触板25、外接触板26和内接触板27任两个同时接触，避免接触板之间的直接连接。
36.进一步的，所述主板21的上端设置接电杆28，所述中间接触板25、外接触板26和内接触板27均与接电杆28电性连接。
37.本瓷套电阴干综合加工设备还包括所述中间接触板25、外接触板26和内接触板27的连接电路，参考图5，所述连接电路包括电源、开关、两个可调电阻r0、电阻r1、电阻r2和电阻r3，所述电阻r1、电阻r2和电阻r3与电源并连接，电阻r1、电阻r2和电阻r3的阻值相同，所述电阻r1的两端用于连接外接触板26，所述电阻r2的两端用于连接内接触板27，所述电阻r3的两端用于连接中间接触板25。所述电阻r1和电阻r2对应的支路上分别串联一个可调电阻r0,可调电阻r0用于分压，保持电阻r1和电阻r2对应的电压小于电阻r3，使得电阻r3两端的电压较高。
38.参考图4，本实施例中，中间接触板25用于对应接触陶瓷胚体中部的电极网环24，外接触板26和内接触板27用于对应接触陶瓷胚体外壁和内孔部分的电极网环24，使得陶瓷胚体中部的电压大于内孔和外壁。参考图6，在进行电阴干过程中，由于，陶瓷胚体中部的电压大于内孔和外壁，保持中部的干燥速度大于内孔和外壁，陶瓷胚体中部的水分从中溢出，保持内孔和外壁的湿润，避免陶瓷体外部干燥导致的开裂，同时为陶瓷胚体的内孔和外壁修胚提供水分，使得修胚更顺畅。
39.参考图1，上述上电极盖2连接箱体1上部的下推气缸3，所述下推气缸3的下端设置连接盘4，所述连接盘4包括旋转连接的固定板41和旋转板42，固定板41固定连接下推气缸3的下端，旋转板42连接上电极盖2。所述旋转板42内部设置与接电杆28相匹配的接电套43，所述接电套43的下部用于与接电杆28套接，所述接电套43的上部与固定板41内部的导电环44滑动接触，导电环44连接供电端。当陶瓷胚体旋转，上电极盖2和旋转板42跟随陶瓷胚体旋转，接电套43的上部始终与导电环44保持接触，实现上电极盖2上电极网的持续供电。
40.进一步的，所述下电极盖5的结构与上电极盖2的结构相同。所述下电极盖5连接箱体1下部的转盘9，所述转盘9与箱体1下部的底座10旋转连接，所述转盘9的内部设置接电环91，所述接电环91的上部设置用于与下电极盖5对应的接电杆套接的插孔，所述接电环91的下部从转盘9延伸而出，底座10内部设置用于与接电环91接触的电刷101，电刷101连接供电端。当陶瓷胚体跟随转盘9旋转，电刷101始终保护与接电环91的接触，保持下电极盖5上电极网的持续供电。
41.进一步的，所述底盘10于转盘9的中部内孔处设置同轴的内杆6，内杆6包括位于上部的活动杆61和位于下部的固定杆62，活动杆61与固定杆62无旋转运动套接。所述所述活动杆61的外部设置内刮片8，所述内刮片8与活动杆61之间设置外推气缸7，外推气缸7用于调节内刮片8的位置，方便瓷套套在内刮片8的外部，提高内刮板8的适用性。
42.进一步的，所述外刮板11通过调节气缸13连接箱体1的侧壁，调节气缸13的工作端设置连接片12，连接片12用于可拆卸连接外刮板11，用于外刮板11的更换，提高本瓷套电阴干综合加工设备的适用性。
43.本瓷套电阴干综合加工设备的箱体设置透气窗14，透气窗14用于透气和排出水分。
44.本瓷套电阴干综合加工设备工作过程为：
45.步骤一：将选用对应陶瓷胚体的上电极盖2、下电极盖5、内刮片8和外刮板11，并将其进行对应位置的安装；
46.步骤二：保持外推气缸7、调节气缸13和下推气缸3为收缩状态，将对应陶瓷胚套在活动杆61和内刮片8的外部，外推气缸7伸展，使得内刮片8位于标准陶瓷胚套内孔位置，然后将活动杆61的下端插接于固定杆62上，此时陶瓷胚套位于转盘9上，同时陶瓷胚套的下表面与下电极盖5对应；
47.步骤三：下推气缸3伸展，使得陶瓷胚套的上表面与上电极盖2接触；
48.步骤四：驱动旋转电机291，调整中间接触板25、外接触板26和内接触板27的角度，形成目标电阴干的强干燥区和弱干燥区，然后驱动接触气缸292伸展，中间接触板25、外接触板26和内接触板27与电极网环24接触，并将上电极盖2、下电极盖5进行通电，对陶瓷胚体进行电阴干；
49.步骤五：驱动调节气缸13伸展，外刮板11位于标准陶瓷胚套外壁位置并与陶瓷片胚体接触；
50.步骤六：驱动转盘9旋转，陶瓷胚体跟随转盘9旋转，内刮片8对陶瓷胚套内孔进行修胚，外刮板11对陶瓷胚套外壁进行修胚；
51.在此过程中，电刷101始终保护与接电环91的接触，保持下电极盖5上电极网的持续供电；同时，上电极盖2和旋转板42跟随陶瓷胚体旋转，接电套43的上部始终与导电环44保持接触，实现上电极盖2上电极网的持续供电。
52.瓷套电阴干综合加工设备可实现在陶瓷胚体电阴干时进行修胚，其对瓷套胚体中部进行强干燥、对瓷套胚体的内孔和外壁进行弱干燥，使得陶瓷胚体中部的水分从中溢出，可保持内孔和外壁的湿润，避免陶瓷电阴干外壁的开裂，同时为陶瓷胚体内孔和外壁的修胚提供了水分，保持修胚的顺畅进行，改善修胚时的粉尘和跳刀。
53.以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
技术特征：1.瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，包括箱体(1)，所述箱体(1)的内部设置用于与陶瓷胚体的上端接触的上电极盖(2)、用于与陶瓷胚体的下端接触的下电极盖(5)、用于对陶瓷胚体内孔进行修胚的内刮片(8)和用于对陶瓷胚体外壁进行修胚的外刮板(11)；所述下电极盖(5)连接箱体(1)下部的转盘(9)，所述转盘(9)与箱体(1)下部的底座(10)旋转连接；所述上电极盖(2)连接箱体(1)上部的下推气缸(3)；所述上电极盖(2)和下电极盖(5)的结构相同；所述上电极盖(2)包括环形主板(21)、延伸杆(22)、同心环架(23)、电极网环(24)、中间接触板(25)、外接触板(26)、内接触板(27)和接触组件(29)，所述所述主板(21)的下端通过延伸杆(22)连接同心环架(23)，所述同心环架(23)包括多个同心的绝缘环体，所述绝缘环体之间设置同心的电极网环(24)；所述中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)分别通过对应的接触组件(29)与主板(21)的下表面连接，所述接触组件(29)包括旋转电机(291)、接触气缸(292)和导电块(293)，所述旋转电机(291)的输出轴固定连接接触气缸(292)，所述接触气缸(292)的工作端连接导电块(293)，所述导电块(293)用于连接接触板。2.根据权利要求1所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)的排布满足以下要求：中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)旋转过程中互不干涉；当接触气缸(292)伸展，中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)与电极网环(24)接触，一个电极网环(24)不同时与中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)任两个同时接触。3.根据权利要求2所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述主板(21)的上端设置接电杆(28)，所述中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)均与接电杆(28)电性连接。4.根据权利要求3所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述下推气缸(3)的下端设置连接盘(4)，所述连接盘(4)包括旋转连接的固定板(41)和旋转板(42)，固定板(41)固定连接下推气缸(3)的下端，所述旋转板(42)内部设置与接电杆(28)相匹配的接电套(43)，所述接电套(43)的下部用于与接电杆(28)套接，所述接电套(43)的上部与固定板(41)内部的导电环(44)滑动接触。5.根据权利要求3或者4所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述转盘(9)的内部设置接电环(91)，所述接电环(91)的上部设置用于与下电极盖(5)对应的接电杆套接的插孔，所述接电环(91)的下部从转盘(9)延伸而出，底座(10)内部设置用于与接电环(91)接触的电刷(101)。6.根据权利要求5所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述底盘(10)于转盘(9)的中部内孔处设置同轴的内杆(6)，所述内杆(6)的外部设置内刮片(8)，所述内刮片(8)与内杆(6)之间设置外推气缸(7)。7.根据权利要求6所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述外刮板(11)通过调节气缸(13)连接箱体(1)的侧壁。8.根据权利要求5所述的瓷套电阴干综合加工设备，其特征在于，所述中间接触板(25)、外接触板(26)和内接触板(27)的连接电路包括电源、开关、两个可调电阻r0、电阻r1、电阻r2和电阻r3，所述电阻r1、电阻r2和电阻r3与电源并连接，电阻r1、电阻r2和电阻r3的
阻值相同，所述电阻r1和电阻r2对应的支路上分别串联一个可调电阻r0,所述电阻r1的两端用于连接外接触板(26)，所述电阻r2的两端用于连接内接触板(27)，所述电阻r3的两端用于连接中间接触板(25)。
技术总结本发明公开了一种瓷套电阴干综合加工设备，包括箱体，所述箱体的内部设置上电极盖、下电极盖、内刮片和外刮板，所述下电极盖通过转盘与箱体下部的底座旋转连接，所述底盘于转盘的中部设置内杆，所述内杆的外部设置内刮片，上电极盖连接箱体上部的下推气缸，所述外刮板通过调节气缸连接箱体的侧壁，本发明中的瓷套电阴干综合加工设备可实现在陶瓷胚体电阴干时进行修胚，对瓷套胚体中部进行强干燥使水分溢出，保持内孔和外壁的湿润，保持修胚的顺畅进行，改善修胚时的粉尘和跳刀，同时可对瓷套胚体中部强干燥以及瓷套胚体的内孔和外壁弱干燥的半径范围进行调整，提高电阴干对陶瓷胚体以及外部环境的适用性。体以及外部环境的适用性。体以及外部环境的适用性。
技术研发人员：易磊
受保护的技术使用者：醴陵市东方电瓷电器有限公司
技术研发日：2022.04.11
技术公布日：2022/7/5
