• .本实用新型涉及回流比控制技术领域,具体是一种故障率低的磁性驱动回流比控制机构。背景技术.回流比控制器是一种可安装在蒸馏塔内或塔外、用于分流的一种装置。该设备用芯片控制电磁阀的开启和关闭时间来控制回流的多少,能减轻操作工劳动强度,直观、易操
    allin2023-4-2
    2030
  • .本发明涉及,-丁二醇生产技术领域,具体涉及一种,-丁二醇生产系统及工艺,是将,-丁炔二醇溶液经进料泵加压后输送至反应器内,经分段式、多重分布与氢气在镍催化剂的条件下进行反应生成,-丁二醇,通过均置式收集器循环并达到出料目的的工艺技术。背景
    allin2023-4-2
    2110
  • .本公开涉及通信技术领域,特别涉及一种位置提醒方法、装置、基站及芯片。背景技术.目前,uwb(ultrawideband,超宽带)技术可以应用在对设备之间的距离进行检测,并且当检测到设备之间的距离超过一定阈值时提醒用户的场景。.在相关技术中
    allin2023-4-2
    1440
  • .本公开涉及计算机视觉技术领域,具体而言,涉及一种目标检测方法、物品拿取状态确定方法、目标检测装置、物品拿取状态确定装置、电子设备及计算机可读存储介质。背景技术.随着计算机视觉技术的不断发展,目标检测技术被得到广泛开发。基于神经网络的目标检
    allin2023-4-2
    1510
  • 一种基于膜堆结构的高q三维金属微纳光学器件技术领域.本实用新型涉及金属微纳光学器件技术领域,尤其涉及一种基于膜堆结构的高q三维金属微纳光学器件。背景技术.表面等离激元(spps)是沿着金属和电介质界面传播的倏逝波,在克服衍射极限方面有着潜在
    allin2023-4-2
    1550
  • .本发明涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种半导体工艺设备及脉冲信号控制方法。背景技术.双频容性耦合等离子(capacitivelycoupledplasma,ccp)刻蚀工艺以具有高刻蚀速率的优势广泛应用在微电子加工领域,实现高深宽比刻蚀
    allin2023-4-2
    1580
  • .本实用新型涉及透水装置相关技术领域,具体为一种用于海绵城市的透水装置。背景技术.目前,城市人行道、步行街等处的路面大多采用普通防滑方砖、彩色水泥方砖或广场转等铺装,这些不透水的路面由于缺乏呼吸性,吸收热量和渗透雨水的能力,导致雨水仅能通过
    allin2023-4-2
    1530
  • .本实用新型属于家用电器技术领域,涉及一种饮水设备,具体涉及一种台上式上水器。背景技术.我国面临着极大的环保及能源压力,为了解决传统饮水机、开水机的大机体,反复烧水造成的能源及材料浪费,上水器已经越来越多的为每个家庭所使用,成为生活的必备用
    allin2023-4-2
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  • .本实用新型涉及医用防护服生产技术领域,具体为一种医用防护服生产用的消毒装置。背景技术.医用防护服是指医务人员及进入特定医药卫生区域的人群所使用的防护性服装,其作用是隔离病菌、有害超细粉尘、酸碱性溶液、电磁辐射等,保证人员的安全和保持环境清
    allin2023-4-2
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  • 一种带有隐藏铰链的t型磁吸门技术领域.本实用新型涉及室内门的一种结构技术领域,更具体地说,本实用涉及一种带有隐藏铰链的t型磁吸门。背景技术.带有隐藏铰链的t型磁吸门是一种带有隐藏铰链的t型磁吸门装置设备。.目前,在户内门的领域里,市面上销售
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